溅射工艺参数对MgF2薄膜光学性质的影响

• 作者: 傅莉 张育潜
• 来源期刊: 矿冶
• 学科: 工学
• 关键词: MgF2薄膜 溅射功率 氩气流量 光学性质
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 冶金与材料
• 页码范围: 65-68
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.22
• 字数: 1984字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-7854.2017.05.015

摘要

采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF2薄膜.通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律.试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF2薄膜的光学性质,有利于MgF2薄膜在紫外波段的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅莉	西北工业大学材料学院	75	535	14.0	20.0
2	张育潜	西北工业大学材料学院	5	4	1.0	1.0