关于CCD铝布线光刻工艺质量的优化研究

• 作者: 向鹏飞 杨修伟 袁安波 韩沛东 高建威
• 来源期刊: 电子科技
• 学科: 工学
• 关键词: CCD 铝布线 光刻 质量
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 光电·材料
• 页码范围: 146-149
• 页数: 4页
• 分类号: TN622
• 字数: 2702字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16180/j.cnki.issn1007-7820.2017.06.041

摘要

针对CCD器件制作过程中铝布线的光刻工艺质量较差问题,阐述了其产生的原因和对后续刻蚀工艺造成的影响及对器件性能造成的不良结果.文中从改进光刻工艺参数的角度入手进行试验查找相应的解决办法,通过为高台阶层次添加焦距补偿的方法提高铝布线的光刻工艺质量.通过器件性能测试验证了其可行性,在之后制定了工艺规范,使器件整体的工艺能力和成品率得到显著提升.