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NiO/g-C3N4修饰电极的制备及电催化检测抗坏血酸
NiO/g-C3N4修饰电极的制备及电催化检测抗坏血酸
作者:
刘素芹
朱南南
李成
王星
谢静文
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氧化镍
g-C3N4
电沉积
抗坏血酸
修饰电极
摘要:
利用三聚氰胺制备石墨相的氮化碳,即g-C3N4,以氯化镍和g-C3N4为基础物质采用电沉积方法制备复合化学修饰电极.通过对裸电极、NiO/GCE、g-C3N4/GCE和NiO/g-C3N4/GCE对抗坏血酸的催化效果的比较,发现NiO和g-C3N4的复合修饰电极对抗坏血酸具有良好的电催化氧化作用.扫描速率在70~200mV/s范围内,峰电流与扫描速率呈良好的线性关系:Ia=-34.14-1.167v,R=0.998;Ic=53.42+0.357 8v,R=0.982.峰电位随扫描速率增大有一定的偏移,说明该修饰电极的氧化还原过程受表面控制.当抗坏血酸的质量浓度介于0.017 6~22.88μg/mL时,其氧化峰电流与质量浓度具有良好的线性关系,方程为:Ipa=-1.435+ 2.900C,R=0.998,检出限为0.008 8μg/mL.该传感器的选择性、重复性和稳定性良好,可用于果汁中抗坏血酸的检测.
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文献信息
篇名
NiO/g-C3N4修饰电极的制备及电催化检测抗坏血酸
来源期刊
食品科学
学科
化学
关键词
氧化镍
g-C3N4
电沉积
抗坏血酸
修饰电极
年,卷(期)
2017,(16)
所属期刊栏目
成分分析
研究方向
页码范围
122-126
页数
5页
分类号
O657.1
字数
3129字
语种
中文
DOI
10.7506/spkx1002-6630-201716019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李成
湖北文理学院化学工程与食品科学学院低维光电材料与器件湖北省重点实验室
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朱南南
湖北文理学院化学工程与食品科学学院低维光电材料与器件湖北省重点实验室
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王星
湖北文理学院化学工程与食品科学学院低维光电材料与器件湖北省重点实验室
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谢静文
湖北文理学院化学工程与食品科学学院低维光电材料与器件湖北省重点实验室
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研究主题发展历程
节点文献
氧化镍
g-C3N4
电沉积
抗坏血酸
修饰电极
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
食品科学
主办单位:
北京食品科学研究院
出版周期:
半月刊
ISSN:
1002-6630
CN:
11-2206/TS
开本:
大16开
出版地:
北京市西城区禄长街头条4号
邮发代号:
2-439
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
24602
总下载数(次)
47
总被引数(次)
348406
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