高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层

• 作者: 刘金鑫 史月增 张丽 徐永宽 王利杰 齐海涛
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 高温CVD TaC涂层 工艺条件
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺·技术
• 页码范围: 6183-6186,6192
• 页数: 5页
• 分类号: TB34|TB35
• 字数: 2122字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.033

摘要

采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层.通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丽	中国电子科技集团公司第四十六研究所	19	44	3.0	5.0
2	齐海涛	中国电子科技集团公司第四十六研究所	20	30	3.0	4.0
3	徐永宽	中国电子科技集团公司第四十六研究所	28	57	4.0	6.0
4	王利杰	中国电子科技集团公司第四十六研究所	8	30	3.0	5.0
5	史月增	中国电子科技集团公司第四十六研究所	11	16	3.0	3.0
6	刘金鑫	中国电子科技集团公司第四十六研究所	2	3	1.0	1.0