便于激光刻蚀的PCB基板铜箔表面黑氧化工艺

• 作者: 姚丽丽 李瑜煜
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 印制电路板 铜箔 黑氧化 亚氯酸盐 激光刻蚀 吸收率
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 386-390
• 页数: 5页
• 分类号: TG178
• 字数: 2796字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2018.09.004

摘要

采用正交试验确定了适合激光刻蚀的PCB覆铜板铜箔表面黑氧化的最佳工艺为:先在常温的30 g/L(NH4)2S2O8溶液中微刻蚀5～10 min,然后在70°C的NaClO280 g/L+NaOH 25 g/L的溶液中浸泡15 min.对黑氧化膜进行了X射线衍射及扫描电镜分析,并进行激光刻蚀实验予以验证.结果表明,黑氧化工艺可提高铜箔对激光的吸收率,改善了激光刻蚀质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李瑜煜	广东工业大学材料与能源学院	35	193	8.0	12.0
2	姚丽丽	广东工业大学材料与能源学院	6	7	2.0	2.0