步进投影光刻机及其常见故障分析

• 作者: 雷宇
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 曝光 预对准 调平调焦 同轴对准
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 设备维护与维修
• 页码范围: 40-45
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 4249字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2018.02.010

摘要

根据步进投影光刻机的基本原理及其基本结构,分析了影响投影光刻工艺的主要因素.根据多年对设备的维修经验,总结了ASML步进投影光刻机的常见故障并给出了相应的解决方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷宇	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	14	2.0	3.0