荧光法测量光学元件亚表面损伤深度的实验研究

• 作者: 侯晶 张彦虎 朱本温 王景贺 王洪祥
• 来源期刊: 中南大学学报（英文版）
• 关键词: 光学元件 亚表面缺陷 无损检测 研磨 亚表面损伤
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 页码范围: 1678-1689
• 页数: 12页
• 字数: 325字
• 语种: 英文

摘要

本文利用纳米级荧光量子点对光学元件亚表面缺陷进行标记,采用共聚焦荧光显微镜对聚焦表面进行逐层扫描,得到被测样品不同深度处的切片图像.通过特征点荧光强度的变化,定量表征了熔石英光学元件的亚表面损伤深度.结果表明,当扫描深度超过临界值时,最大荧光强度急剧下降,光学元件亚表面损伤深度可以通过量子点实际嵌入深度确定.考虑到破坏性检测方法能有效验证的无损检测方法,角度抛光、磁流变抛光实验在相同的条件下进行.结果表明,纳米级量子点对光学元件的表面缺陷具有良好的标注能力.此外,无损检测方法可以有效地评估熔石英元件的亚表面损伤深度.