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摘要:
针对垂直梳齿静电驱动微光机电系统(MOEMS)芯片制备工艺中,用于静电驱动的固定梳齿和可动梳齿难以精确对准的问题,通过开发一种自对准工艺技术,利用一次光刻和预掩蔽层梳齿定位以及连续两次深反应离子刻蚀(DRIE)工艺,可成功实现固定梳齿和可动梳齿的精确定位.基于该技术制备出的静电梳齿驱动光可调衰减器(VOA)芯片和光开关(OSW)芯片具有良好的光学性能,两款芯片的微镜可分别实现静电驱动电压6和55 V下0.5°及3.0°的角度偏转.结果表明,应用该自对准工艺,使易于加工、低成本且可批量化的芯片制备成为可能.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 光MEMS芯片驱动结构自对准技术
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 光通信 微光机电系统(MOEMS) 垂直梳齿驱动 微镜 自对准技术
年,卷(期) 2018,(5) 所属期刊栏目 加工、测量与设备
研究方向 页码范围 366-370
页数 5页 分类号 TH703
字数 语种 中文
DOI 10.13250/j.cnki.wndz.2018.05.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐永青 中国电子科技集团公司第十三研究所 11 118 5.0 10.0
2 张晓磊 中国电子科技集团公司第十三研究所 1 0 0.0 0.0
3 杜妙璇 中国电子科技集团公司第十三研究所 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
光通信
微光机电系统(MOEMS)
垂直梳齿驱动
微镜
自对准技术
研究起点
研究来源
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