射频磁控溅射制备非晶WO3薄膜的结构及其光电性质研究

• 作者: 王玉梅 裴慧霞 陈彬 高艳平
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: WO3薄膜 射频磁控溅射 电致变色
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 832-835,842
• 页数: 5页
• 分类号: TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2018.06.016

摘要

采用射频磁控溅射技术,以WO3陶瓷靶为原料,在透明导电氧化铟锡(ITO)玻璃上沉积了非晶相WO3薄膜,研究了溅射功率对薄膜结构及光学性质的影响,并研究了WO3薄膜的电致变色特性.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射技术(XRD)表征了薄膜的表面形貌和内部结构;利用UV-Vis分光光度计表征了薄膜在变色前后的光学透过性质,利用电化学测试工作站研究了WO3薄膜的电致变色性质,并从原理上分析了WO3薄膜的变色机理.研究结果表明,不同功率下获得的WO3薄膜均为非晶结构,在可见光范围内有较高的透过率.透明的WO3薄膜在负向电压下逐渐转变成深蓝色,且在撤去电压后其颜色不变,当施加正向电压时,薄膜又转换为透明态,表现出良好的电致变色特性.所制备WO3薄膜在550 nm处褪色态的透过率为83％,着色态的透过率为29％,使得该薄膜在智能窗方面具有广阔的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王玉梅		59	339	11.0	15.0
3	裴慧霞		3	3	1.0	1.0
9	高艳平		1	2	1.0	1.0
10	陈彬		1	2	1.0	1.0