铈掺杂金刚石薄膜的研究

• 作者: 刘学杰 王宇晨 陆鹏飞
• 来源期刊: 河南科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 铈掺杂金刚石薄膜 微波等离子体化学气相沉积 二次离子质谱 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 13-17
• 页数: 5页
• 分类号: TB383|TQ163
• 字数: 2817字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2018.06.003

摘要

采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统制备了铈(Ce)掺杂金刚石薄膜.对Ce掺杂金刚石薄膜进行了飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)和X射线光电子能谱(XPS)的表征.研究结果表明:在金刚石薄膜的深度方向上,Ce元素的质量分数呈现梯度分布,表层中质量分数最大.当Ce掺杂通量分别为30 mL/min、45 mL/min和60 mL/min时,掺杂金刚石薄膜样品中Ce的质量分数分别为0.53％、0.86％和1.34％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘学杰	内蒙古科技大学机械工程学院	57	114	6.0	7.0
2	王宇晨	内蒙古科技大学机械工程学院	2	2	1.0	1.0
3	陆鹏飞	内蒙古科技大学机械工程学院	1	2	1.0	1.0