Na或Cu掺杂对Si/NiO异质结的光电性能影响

• 作者: 刘真真 李彤 王铁钢 王雅欣 范其香 赵新为
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: NiO Na掺杂 Cu掺杂 异质结 整流特性
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能
• 页码范围: 784-789
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3829字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20183906.0784

摘要

利用磁控溅射方法制备了引入Na或Cu元素前后Si/NiO异质结.实验结果表明,Na元素引入后的Si/NiO:Na异质结的整流特性最佳.此时,Si/NiO:Na异质结光学透过率可以达到70％,这可能是由于Si/NiO:Na异质结的结晶质量较优、薄膜内缺陷少所致.Si/NiO:Na异质结Ⅰ-Ⅴ曲线的拟合结果显示界面态状态也会影响其整流特性.而Si/NiO和Si/NiO:Cu异质结都没能获得较好的整流特性,可能是薄膜内缺陷增多所致.这一结论得到了XRD、SEM、AFM和UV结果的支持.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李彤	天津职业技术师范大学电子工程学院	18	16	3.0	3.0
2	王雅欣	天津职业技术师范大学电子工程学院	14	19	3.0	4.0
3	王铁钢	天津职业技术师范大学机械工程学院	33	28	3.0	4.0
4	范其香	天津职业技术师范大学机械工程学院	12	2	1.0	1.0
5	刘真真	天津职业技术师范大学电子工程学院	3	0	0.0	0.0
6	赵新为	东京理科大学物理系	3	4	1.0	2.0