光刻机照明光场均匀性高精度校正方法研究

• 作者: 张方 曾爱军 杨宝喜 林栋梁 程伟林 黄惠杰
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光数据存储 光刻机 照明系统 均匀性校正
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 254-263
• 页数: 10页
• 分类号: O435.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201838.0722001

摘要

提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排布方式来提高校正能力和精度.仿真结果表明:当校正手指错开排布时,手指阵列式均匀性校正器的校正精度优于0.2％;当校正手指的前端有倒斜角且双层错开排布时,手指阵列式均匀性校正器的校正精度优于0.16％,比常规手指阵列式均匀性校正器的校正精度提高约一倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄惠杰	中国科学院上海光学精密机械研究所	69	544	13.0	23.0
2	曾爱军	中国科学院上海光学精密机械研究所	33	188	8.0	13.0
3	杨宝喜	中国科学院上海光学精密机械研究所	17	1	1.0	1.0
4	张方	中国科学院上海光学精密机械研究所	17	138	5.0	11.0
5	程伟林	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	0	0.0	0.0
6	林栋梁	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	2	1.0	1.0