多晶电池二次扩散工艺研究

• 作者: 李雪方 焦朋府 贾宇龙
• 来源期刊: 山西化工
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶电池片 二次扩散 转化效率
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 29-30,42
• 页数: 3页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 1448字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16525/j.cnki.cn14-1109/tq.2018.06.09

摘要

多晶电池片生产线的烧焦片、色差片采取有效的二次生产工艺,可以有效提升产线合格率.针对烧焦、色差片进行二次清洗后出现不同的方阻值,优化并制定不同的二次扩散工艺.稳定方阻,提升其转化效率.实验结果表明:清洗后方阻为95Ω～120 Ω的硅片,扩散提高推进氧浓度;方阻为120Ω～150 Ω的硅片,采用794℃低温沉积,810℃高温推进,并延长推进时间;方阻大于150 Ω的硅片使用生产两步沉积两步扩散方法.三种不同情况下的扩散运行配方,高方阻值均可调整并稳定在生产要求范围内,并且转换效率与产线持平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾宇龙		7	3	1.0	1.0
2	焦朋府		14	3	1.0	1.0
3	李雪方		7	2	1.0	1.0