SUPREM-Ⅲ进行集成电路氧化一扩散工艺模拟

• 作者: 刘欢 王健 边福强 魏立峰
• 来源期刊: 科技与创新
• 关键词: SUPREM-Ⅲ 氧化扩散 工艺模拟
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 软件时空
• 页码范围: 273-275
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-0570.2007.12.109

摘要

随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-Ⅲ完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟.并对模拟结果进行分析比较.从而对氧化、扩散工艺操作过程有直观的了解,避免了复杂的工程计算.