探究超大规模集成电路中的CVD薄膜淀积技术

• 作者: 王莉
• 来源期刊: 市场周刊·理论版
• 学科: 经济
• 关键词: 超大规模 集成电路 CVD 薄膜 淀积
• 年，卷（期）: 2018,（38）
• 页码范围: 0135-0135
• 页数: 1页
• 分类号: F

摘要

随着有关半导体工艺技术的见识或理解的增长,新工艺或新设备的研究,以及制作微细图形新技术的发展,从而使大规模集成电路器件的密度推向更高的水平,因此,研究超大规模集成电路中的CVD薄膜淀积技术有着十分重要的意义。本文阐述了在超大规模集成电路制造工艺中,用化学气相(CVD)方法淀积各种薄膜的反应机理和特性,以及这些薄膜在器件制造工艺中的应用。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王莉		1	0	0.0	0.0