高功率脉冲复合直流磁控溅射制备类金刚石薄膜的结构与性能

• 作者: 杨洪志 林松盛 许伟 邹俭鹏 高迪
• 来源期刊: 粉末冶金工业
• 关键词: 高功率脉冲 磁控溅射 类金刚石薄膜 微观结构 纳米硬度
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 18-23
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1006-6543.20180118

摘要

采用高功率脉冲复合直流磁控溅射技术,以工作气压、基底偏压和靶电压为影响因素设计正交试验进行类金刚石(DLC)薄膜的制备研究,采用扫描电镜(SEM)、纳米硬度计、拉曼光谱和3D轮廓仪等对DLC膜层进行结构与性能分析.结果表明:制备得到的DLC薄膜厚度约为1μm,硬度在10.00～25.00 GPa之间,最高可达24.29 GPa;对DLC薄膜拉曼峰进行高斯拟合得到位于1 520～1 540 cm-1处的特征峰G峰和1 330～1 370 cm-1处的特征峰D峰.在3个影响因素中,基底偏压对膜层厚度、硬度、致密性及sp3含量的影响最大,而靶电压及工作气压对膜层结构性能影响较小.随着基底偏压的增加,薄膜厚度逐渐减小,硬度逐渐增大;峰强比Id/Ig逐渐减小,sp3含量逐渐增大,且薄膜截面由疏松多孔的柱状结构变为孔隙较少的致密结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹俭鹏		58	587	14.0	22.0
2	杨洪志		9	24	3.0	4.0
3	许伟		9	48	4.0	6.0
4	高迪		5	15	2.0	3.0
5	林松盛		2	0	0.0	0.0