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摘要:
GaAs材料经机械研磨后,表层形成粗糙界面,用酸碱法表面处理GaAs,使Ga-O、As-O键断裂并修复粗糙界面,处理效果通过电导法测量界面态密度与XPS分析界面化合物价态来表征.结果表明酸碱处理均可降低界面态密度与表面Ga、As氧化物,且酸处理的效果优于碱处理,Ga-O化合物去除率高于As-O化合物去除率,界面态密度的降低可能主要与Ga化合物的减少相关.
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文献信息
篇名 表面处理降低GaAs界面态密度的研究
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 表面处理 GaAs 界面态密度 结合能
年,卷(期) 2019,(1) 所属期刊栏目 固态电子器件及材料
研究方向 页码范围 1-4
页数 4页 分类号 TN304
字数 2024字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2019.01.001
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 肖和平 11 11 3.0 3.0
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研究主题发展历程
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表面处理
GaAs
界面态密度
结合能
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
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27643
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