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摘要:
涂胶作为光刻工艺的重要环节,为了保证涂胶工艺质量,提高涂胶设备的自动化程度,减少中间污染环节,开发了一种全自动涂胶设备,通过对涂胶腔体和机械手等关键部件的改进,更好地满足了用户生产线要求;并通过对涂胶工艺中影响膜厚均匀性的重要因素进行研究、实验和分析,得出了适合用户生产线的工艺配方.
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内容分析
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文献信息
篇名 全自动涂胶设备及涂胶工艺的研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 涂胶腔体 机械手 涂胶工艺
年,卷(期) 2019,(3) 所属期刊栏目 先进封装技术与设备
研究方向 页码范围 56-59
页数 4页 分类号 TN305
字数 1415字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周占福 中国电子科技集团公司第四十五研究所 4 0 0.0 0.0
2 吕磊 中国电子科技集团公司第四十五研究所 13 20 3.0 3.0
3 艾博 中国电子科技集团公司第四十五研究所 2 4 1.0 2.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
涂胶腔体
机械手
涂胶工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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