基于离子束溅射Ta2O5薄膜的紫外吸收膜技术

• 作者: 刘丹丹 刘华松 姜承慧 姜玉刚 季一勤 李士达 王利栓 陈丹
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束溅射技术 紫外吸收薄膜 吸收率 透射率 反射率
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 527-532
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1740字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20192703.0527

摘要

为获得高性能紫外激光薄膜元件,急需研制紫外高反射吸收薄膜,实现吸收损耗的精确测量.本文采用离子束溅射技术,通过调控氧气流量实现了具有不同吸收的Ta2O5薄膜的制备.以Ta2O5薄膜作为高折射率材料,设计了355 nm的紫外高反射吸收薄膜.采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了355 nm的吸收薄膜,对于A=5％的紫外吸收光谱,在355 nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1％,95.0％和4.9％;对于A=12％的紫外吸收光谱,在355 nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1％,87.4％和12.5％.实验结果表明,采用离子束溅射沉积技术,可以实现不同吸收率的355 nm高反射吸收薄膜的制备,对于基于光热偏转测量技术的紫外光学薄膜弱吸收测量仪的定标具有重要的意义.