靶基距对ZnMgO:Ti透明导电薄膜性能的影响

• 作者: 倪庆宝 刘云燕 刘汉法 孙艳 张化福
• 来源期刊: 山东理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnMgO 透明导电薄膜 磁控溅射 靶基距 光电性能
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2069字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnMgO:Ti透明导电薄膜.利用SEM、XRD、双光束紫外可见分光光度计和四探针法系统研究了靶基距对薄膜形貌及光电性能的影响.结果表明,靶基距对ZnMgO:Ti薄膜光电特性有较大影响.随着靶基距的增加,电阻率先减小后增加,在靶基距为50 mm时薄膜电阻率达到最小值6.44×10-4Ω·cm;靶基距对薄膜的光透过率影响不大,所制备薄膜在400～900 nm范围内的平均透射率均达到92％,但随着靶基距的增加,光学吸收边界向短波方向移动,出现了蓝移现象.不同靶基距下,带隙宽度也发生了变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学物理与光电工程学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学物理与光电工程学院	52	292	11.0	13.0
3	刘云燕	山东理工大学物理与光电工程学院	16	111	6.0	10.0
4	孙艳	山东理工大学物理与光电工程学院	11	21	3.0	4.0
5	倪庆宝	山东理工大学物理与光电工程学院	1	0	0.0	0.0