基于水平集方法的离子束刻蚀碲镉汞的轮廓演变模拟

• 作者: 刘向阳 孙艳 徐国庆 李向阳 贾嘉
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碲镉汞 离子束 刻蚀轮廓 水平集方法 刻蚀速度减缓 深宽比
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 页码范围: 331-337
• 页数: 7页
• 分类号: TN215
• 字数: 5191字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11972/j.issn.1001-9014.2019.03.013

摘要

用水平集方法建立了碲镉汞的离子束刻蚀轮廓的数值模型,模型的输入参数包括掩膜厚度、掩膜侧壁倾角、掩膜沟槽宽度、离子束散角、刻蚀速度等参数.对碲镉汞的刻蚀轮廓和刻蚀速度减缓现象进行了模拟和实验验证,结果表明,在沟槽宽度为4～10 μm的范围内,计算得到的刻蚀深度和SEM测量结果相差6～20％.对掩膜的轮廓演变进行了模拟,给出了一个优化设计掩膜厚度来提高深宽比的实例.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾嘉	中国科学院上海技术物理研究所中科院红外成像材料与器件重点实验室	10	159	5.0	10.0
2	李向阳	中国科学院上海技术物理研究所中科院红外成像材料与器件重点实验室	110	438	10.0	14.0
3	孙艳	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	47	652	12.0	25.0
4	刘向阳	中国科学院上海技术物理研究所中科院红外成像材料与器件重点实验室	5	75	2.0	5.0
8	徐国庆	中国科学院上海技术物理研究所中科院红外成像材料与器件重点实验室	5	9	2.0	2.0