ICP-CVD设备低温制备低应力氮化硅薄膜工艺的探索

• 作者: 乌李瑛 付学成 权雪玲 王英 瞿敏妮
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: ICP-CVD 氮化硅薄膜 低温 低应力
• 年，卷（期）: 2019,（10）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 896-900
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2019.10.11

摘要

制备低应力的氮化硅薄膜是微机械系统和集成电路中非常重要的工艺.在温度不高于80℃的条件下,采用ICP-CVD设备,利用硅烷和氮气作为前驱体沉积氮化硅介质薄膜.研究了沉积温度、ICP功率、硅烷与氮气流量比例、工作气压等因素对氮化硅薄膜应力的影响,并利用相关的理论合理解释了应力随不同工艺参数变化的原因.根据研究结果,我们优化了氮化硅薄膜沉积的工艺参数,在70℃低温条件下,制备出厚度160 nm,应力0.03 MPa的低应力氮化硅介质薄膜.