基底偏压对磁控溅射TiAlSiN涂层微观结构、力学性能及摩擦学性能的影响

• 作者: 关庆丰 周时雨 曹甫洋
• 来源期刊: 硬质合金
• 关键词: 磁控溅射 TiAlSiN涂层 硬度 弹性模量 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 273-279
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2020.04.003

摘要

采用直流非平衡磁控溅射方法在M42高速钢表面沉积Ti/TiN/TiAlSiN多层薄膜,研究基底偏压对TiAlSiN的晶体结构、微观组织、力学及摩擦学性能的影响.结果 表明:基体负偏压从40V增加到80 V,TiAlSiN由致密的粗大柱状晶向致密纤维状细晶过渡、晶粒宽度由180 nm减小至60 nm;当负偏压大于60V时,TiAlSiN层由fcc TiN+fccAlN双相结构转变为fcc TiAlN单相结构;涂层硬度和弹性模量随偏压增大呈现上升趋势,当负偏压为80V时,涂层的硬度和弹性模量分别为34.1 GPa和378 GPa;涂层的摩擦学性能随偏压的增大而先增强后降低,当负偏压为40V时,涂层磨损率为5.0× 1006 mm3/Nm,当负偏压为50 V时,涂层则降低至5.0× 10-6 mm3/Nm,为最低值,随着负偏压增加到80V时,磨损率较高,约9.0×10-6mm3/Nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	关庆丰	江苏大学材料科学与工程学院	60	362	11.0	15.0
2	周时雨	江苏大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
3	曹甫洋	江苏大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0