不同工艺参数下DLC薄膜的应力状态

• 作者: 吴慎将 李党娟 王娜 苏俊宏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 类金刚石薄膜 磁控溅射 薄膜应力 工艺参数
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 421-426
• 页数: 6页
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2020.05.05

摘要

类金刚石(DLC)薄膜制备过程中,容易出现较大应力,从而导致DLC薄膜产生裂纹、破裂甚至脱落,对基底过早失去保护作用,导致光学系统失效,严重影响了DLC薄膜的工作时间和应用领域.基于射频磁控溅射技术,在双面抛光Si(100)基底上,沉积DLC薄膜,制备不同射频功率(250、350、450 W)、不同氩气流量(40、60、80 mL/min)、不同溅射角(30°、60°、90°)下的DLC薄膜,获得不同工艺参数对DLC薄膜应力的影响规律.经过测试结果表明:在相同的基底形状与尺寸下,当射频功率为350W,氩气流量为60 mL/min,溅射角为90°时,薄膜的应力表现出最小值,为0.85 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苏俊宏	西安工业大学光电工程学院	111	496	12.0	16.0
2	吴慎将	西安工业大学光电工程学院	47	138	7.0	9.0
3	李党娟	西安工业大学光电工程学院	31	81	6.0	7.0
4	王娜	西安工业大学光电工程学院	8	13	2.0	3.0