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摘要:
该文以厚膜组装VDMOS为对象进行功率循环试验,采用X射线、切金相剖面分析和热阻分析等方法对试验后样品进行了对比.分析厚膜组装各封装界面随时间的退化的特征,并分析了其退化机理.其次利用有限元分析法计算模块中各部分温度分布情况,最后结合Coffin-Manson关系外推不同温度变化条件下的循环次数.
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文献信息
篇名 厚膜组装VDMOS在功率循环下的失效特征和机理
来源期刊 电子质量 学科 工学
关键词 厚膜组装 封装失效 功率循环 失效机理分析 VDMOS
年,卷(期) 2020,(5) 所属期刊栏目 可靠性分析
研究方向 页码范围 35-40
页数 6页 分类号 TN386.1
字数 2600字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 何超 中国电子科技集团公司第四十三研究所 13 17 2.0 3.0
2 吕红杰 中国电子科技集团公司第四十三研究所 9 4 1.0 2.0
3 江国栋 中国电子科技集团公司第四十三研究所 6 0 0.0 0.0
4 汪张超 中国电子科技集团公司第四十三研究所 16 4 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
厚膜组装
封装失效
功率循环
失效机理分析
VDMOS
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子质量
月刊
1003-0107
44-1038/TN
大16开
广州市五羊新城广兴花园32号一层
46-39
1980
chi
出版文献量(篇)
7058
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32
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15176
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