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厚膜组装VDMOS在功率循环下的失效特征和机理
厚膜组装VDMOS在功率循环下的失效特征和机理
作者:
何超
吕红杰
江国栋
汪张超
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
厚膜组装
封装失效
功率循环
失效机理分析
VDMOS
摘要:
该文以厚膜组装VDMOS为对象进行功率循环试验,采用X射线、切金相剖面分析和热阻分析等方法对试验后样品进行了对比.分析厚膜组装各封装界面随时间的退化的特征,并分析了其退化机理.其次利用有限元分析法计算模块中各部分温度分布情况,最后结合Coffin-Manson关系外推不同温度变化条件下的循环次数.
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文献信息
篇名
厚膜组装VDMOS在功率循环下的失效特征和机理
来源期刊
电子质量
学科
工学
关键词
厚膜组装
封装失效
功率循环
失效机理分析
VDMOS
年,卷(期)
2020,(5)
所属期刊栏目
可靠性分析
研究方向
页码范围
35-40
页数
6页
分类号
TN386.1
字数
2600字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
何超
中国电子科技集团公司第四十三研究所
13
17
2.0
3.0
2
吕红杰
中国电子科技集团公司第四十三研究所
9
4
1.0
2.0
3
江国栋
中国电子科技集团公司第四十三研究所
6
0
0.0
0.0
4
汪张超
中国电子科技集团公司第四十三研究所
16
4
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研究主题发展历程
节点文献
厚膜组装
封装失效
功率循环
失效机理分析
VDMOS
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子质量
主办单位:
中国电子质量管理协会
工业和信息化部电子第五研究所(中国赛宝实验室)
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-0107
CN:
44-1038/TN
开本:
大16开
出版地:
广州市五羊新城广兴花园32号一层
邮发代号:
46-39
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
7058
总下载数(次)
32
总被引数(次)
15176
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