基于DMD无掩膜光刻快速制作亲疏水图案化表面

• 作者: 李木军 陈鹏
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: DMD芯片 无掩膜光刻技术 数字掩膜 光敏树脂 亲疏水图案化表面 微液滴阵列
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 所属期刊栏目: 工艺与材料
• 页码范围: 21-27
• 页数: 7页
• 分类号: TH703
• 语种: 中文

摘要

亲疏水图案化表面在表面张力限制的微流控技术中能够发挥显著作用.常见的方法在制作表面的微图案时都需要实物掩模版,这类方法不具备灵活调节制造亲疏水表面微图案的形状与尺寸的能力,并且因制作掩膜而导致制作成本和时间成本都很高.因此,提出了基于DM D无掩膜光刻技术快速制作亲疏水图案化表面的方法并可用于自组装微液滴阵列.该方法利用DM D无掩膜曝光系统进行加工,一步成型地完成了亲疏水图案化表面的疏水处理和微图案化处理.这种方法无需实物掩模,能够灵活调控加工表面疏水图案的形状与尺寸,工艺简单快捷,降低了制作成本.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈鹏		73	581	12.0	22.0
2	李木军		32	137	6.0	9.0