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850 nm高速垂直腔面发射激光器技术研究进展(特邀)
850 nm高速垂直腔面发射激光器技术研究进展(特邀)
作者:
佟海霞
佟存柱
王子烨
陆寰宇
汪丽杰
田思聪
王立军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
垂直腔面发射激光器
高速
脉冲幅度调制
摘要:
垂直腔面发射激光器(VCSEL)具有低成本、低阈值、高速率和低功耗等优点,在短距离光互连中有着重要的应用.随着大数据、超级计算机技术的发展,短距离光互连性能需求越来越高,从而对高速调制的850 nm VCSEL技术提出了更高要求.从带宽限制机理、调制新方法两方面详细回顾了高速850 nm VCSEL技术最新进展,对技术发展趋势进行了总结与展望.
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文献信息
篇名
850 nm高速垂直腔面发射激光器技术研究进展(特邀)
来源期刊
红外与激光工程
学科
关键词
垂直腔面发射激光器
高速
脉冲幅度调制
年,卷(期)
2020,(12)
所属期刊栏目
先进激光器技术|Advanced Laser Technology
研究方向
页码范围
14-21
页数
8页
分类号
TN248.4
字数
语种
中文
DOI
10.3788/IRLA20201077
五维指标
传播情况
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高速
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
红外与激光工程
主办单位:
天津津航技术物理研究所
中国光学工程学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1007-2276
CN:
12-1261/TN
开本:
大16开
出版地:
天津市空港经济区中环西路58号
邮发代号:
6-133
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
9150
总下载数(次)
41
总被引数(次)
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