微电子工艺中的清洗技术进展

• 作者: 何寒冰 罗小琴
• 来源期刊: 集成电路应用
• 关键词: 微电子工艺 湿法清洗 干法清洗
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 创新应用|Applications
• 页码范围: 108-109
• 页数: 2页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2020.06.048

摘要

分析表明,微电子产品在制造过程中由于污染物的影响,降低了合格率,需要进行有效的清洗.阐述微电子工艺中的湿法清洗、干法清洗技术,现状与技术发展的展望.