激光刻蚀在覆盖Cu-Ni的PVDF薄膜图案化中的应用

• 作者: 朱晓航 王任鑫 白建新 张鹏飞
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 关键词: 聚偏氟乙烯 电极 激光刻蚀 压电薄膜 金属图案化
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 应用技术|Applications
• 页码范围: 154-156
• 页数: 3页
• 分类号: TH706|TP212
• 语种: 中文
• DOI: 10.13873/J.1000-9787(2021)04-0154-03

摘要

为了对表面镀有纳米级别金属层的聚偏氟乙烯(PVDF)压电薄膜上进行金属图案化处理,利用光刻技术,分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀两种途径.实施了不同配方的湿法腐蚀、离子束刻蚀(IBE)、激光刻蚀对表层覆盖Ni-Cu的PVDF薄膜进行尝试.结果 发现:激光刻蚀可以得到宽度为100 μm,厚度为450 nm,长度为600 μm的曲梁电极图案.