室温下大厚度氟化钇薄膜的制备

• 作者: 刘畅洋 晋云霞 曹红超 孔钒宇 王勇禄 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 氟化钇薄膜 磁控溅射 溅射功率 折射率
• 年，卷（期）: 2021,（21）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜|Materials and Thin Films
• 页码范围: 55-62
• 页数: 8页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202148.2103001

摘要

氟化钇薄膜由于具有优良的光学性能常被用于红外波段,通过优化磁控溅射工艺,成功地在锗基底上实现了厚度大于1μm的氟化钇薄膜的制备,并分析了溅射功率对于氟化钇薄膜光学性能的影响.采用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、傅里叶红外光谱仪和原子力显微镜对样品的物相结构、化学成分、光学常数和表面粗糙度进行了表征和系统分析.研究表明在200 W的溅射功率下能够制备出氧原子数分数低于6％,在2～8 μm波长范围内折射率高于1.6的低吸收氟化钇薄膜.