0.2 nm带宽滤光片的制备以及退火温度对其形貌和性能的影响

• 作者: 王凯旋 陈刚 刘定权 马冲 张秋玉 高凌山
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 亚纳米带宽滤光片 离子束溅射沉积 近红外波段 退火温度
• 年，卷（期）: 2021,（20）
• 所属期刊栏目: 薄膜|Thin Films
• 页码范围: 217-223
• 页数: 7页
• 分类号: O439
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202141.2031001

摘要

近红外波长为1.064 μm的激光是激光测距、自由空间光通信和空间光学遥感等应用中的主要激光光源之一.窄带滤光片是抑制背景光干扰的关键元件之一,目前大部分滤光片的半峰全宽为几纳米.本文研制了中心波长为(1064±0.05) nm、半峰全宽为0.19 nm、峰值透过率可达70.2％的带通滤光片,并考察了不同温度(100,200,300℃)退火处理后滤光片的表面形貌和光谱特性的变化.实验结果表明:滤光片的表面光滑,受退火温度的影响很小;滤光片的透射光谱随着退火温度的升高向长波方向移动,在100℃退火处理3h的滤光片的光谱漂移量为0.03 nm,说明该滤光片可在温控条件有限的空间光学系统中使用.