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PECVD氮化硅薄膜钝化特性研究
PECVD氮化硅薄膜钝化特性研究
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摘要：
采用江苏微导纳米装备科技有限公司生产的管式镀膜设备,使用PECVD的方法制备氮化硅(SiNx)膜,测试不同工艺温度,射频功率下氮化硅膜的钝化效果,得出最佳工艺条件为:工艺温度450～500℃,射频功率12000W,并在该工艺条件下制备正面膜厚80nm,背面膜厚60nm,折射率2.08-2.10的氮化硅膜,测试该参数下TOPCon电池效率为22.82％.
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电子世界
主办单位：
中国电子学会
出版周期：
半月刊
ISSN：
1003-0522
CN：
11-2086/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市
邮发代号：
2-892
创刊时间：
1979
语种：
chi
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36164
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