光刻机照明系统中继镜组的光场均匀性优化设计

• 作者: 龚爽 杨宝喜 黄惠杰
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光刻 照明系统 光学设计 中继镜组 光场均匀性
• 年，卷（期）: 2022,（3）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造|Optical Design and Fabrication
• 页码范围: 290-299
• 页数: 10页
• 分类号: O438
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20225103.0322001

摘要

提出了一种快速计算光学系统像面照度均匀性的算法,通过近似算法计算系统数值孔径,并利用出射光瞳数值孔径表征像面照度.利用该算法计算光场不均匀性,将其作为自动优化过程中的评价函数之一,优化设计光刻机照明系统中继镜组.通过Light tools软件对设计的中继镜组进行仿真验证,结果表明不同相干因子照明下掩膜面上的光场不均匀性均小于0.5％.通过实验测试了设计的中继镜组的积分均匀性,结果表明各相干因子下,光场不均匀性小于1.21％,能够满足掩膜面上光场不均匀性的指标需求(<1.5％),验证了该快速评估算法可有效应用于中继镜组优化设计中.