光刻机的匹配和调整

• 作者: 周虎明 韩隽
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 套刻精度 误差 匹配 调整
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 设计与制造
• 页码范围: 40-44
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 3814字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2003.03.010

摘要

光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施.光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周虎明		1	3	1.0	1.0
2	韩隽		1	3	1.0	1.0