0.13μm工艺与248nm KrF光刻机

• 作者: 翁寿松
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 0.13μm工艺 248nmKrF光刻机 高k/低k绝缘材料 铜互连
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 器件与制造
• 页码范围: 58-60,6
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 2285字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2003.05.014

摘要

ITRS规划2001年实现0.13μm工艺.实际上2001年0.13μm工艺已达量产.0.13μm工艺包括248nm光刻技术、高k绝缘材料、低k绝缘材料和铜互连技术等新技术.248nm光刻技术是实现0.13μm工艺达到量产的最关键技术,为此,必须采用248nmKrFstepper(准分子激光扫描分步投影光刻机).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁寿松		95	534	13.0	18.0