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薄膜科学与技术期刊
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薄膜科学与技术1993年出版文献
出版文献量(篇)
327
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薄膜科学与技术
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主办单位:
南京电子器件研究所
ISSN:
CN:
出版周期:
双月刊
邮编:
210016
地址:
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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1991年
1990年
目录
1.
乙炔—氧火焰法制备的金刚石薄膜的形貌分布
作者:
Smit.,FW 王若宝
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
1-7
摘要:
2.
双层结构的碲镉汞表面钝化薄膜的研制
作者:
黄河
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
8-13
摘要:
3.
界面薄SiO2层对Ti/Si固相反应形成TiSi2薄膜的影响
作者:
亓文杰 李炳宗
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
14-22
摘要:
4.
掺氧多晶硅薄膜中氢的行为初探
作者:
王云珍 黄碧琳
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
23-27
摘要:
5.
射频反应溅射沉积透明导电CdIn2O4薄膜
作者:
彭栋梁 蒋生蕊
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
28-32
摘要:
6.
Cu—TCNQ有机薄膜的导电温度特性
作者:
韦钰 顾宁
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
33-38
摘要:
7.
溶胶—凝胶工艺制备PbTiO3薄膜
作者:
卢朝靖 邝安祥
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
39-44
摘要:
8.
SiO2—Ti纳米迭层膜的制备
作者:
李戈扬 王张敏
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
45-48
摘要:
9.
硅上钛膜快速热氮化形成的扩散势垒
作者:
华文玉 陈存礼
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
49-52
摘要:
10.
Sol—Gel技术外延生长(Pb,La)TiO3铁电薄膜的研究
作者:
刘梅冬 王培英
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
53-59
摘要:
11.
聚晶金刚石表面金属化钛镀层的研究
作者:
王明智 王艳辉
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
60-63
摘要:
12.
石英毛细管色谱柱镀铝保护膜的研究
作者:
于德洋 翁立军
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
64-67
摘要:
13.
新型介质膜碳氮化硅的SIMS与FTIR分析
作者:
张永夏 王柏青
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
68-72
摘要:
14.
半导体薄膜中杂质的二次离子质谱分析
作者:
王佑祥 陈春华
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
75-79
摘要:
15.
全自动光热偏转谱(PDS)测量系统
作者:
李德林 焦丽虹
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年1期
页码: 
80-84
摘要:
16.
涂层基结合强度测定方法研究进展
作者:
张平余 郑森林
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
85-92
摘要:
17.
电子束法沉积ZnIn2Se4薄膜的性质研究
作者:
张瑞峰 李兴林
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
93-97
摘要:
18.
YSZ上外延硅界面的特性
作者:
陈庆贵 高培德
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
98-103
摘要:
19.
n^+—i=n^+夹心结构a—Si:H薄膜的导电性质—计算机数值模拟分析
作者:
林鸿生
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
104-111
摘要:
20.
沉积条件对直流等离子体CVD金刚石膜光致发光的影响
作者:
刘爱民 王万录
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
112-115
摘要:
21.
一种方酸染料单分子膜及其光谱特性
作者:
吕安德 江龙
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
116-118
摘要:
22.
光活性LB膜制备和光反应—p—PDA单酯/胺体系
作者:
中西房枝 方培基
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
119-124
摘要:
23.
DLC薄膜的防霉效应及其对磁盘电磁性能的影响
作者:
陈弟虎 陈树光
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
125-129
摘要:
24.
WO3薄膜的制备与表征研究
作者:
邵丙铣 陈祥君
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
130-136
摘要:
25.
双光束紫外激光化气相沉积金刚石薄膜的研究
作者:
罗文秀 谭忠恪
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
137-139
摘要:
26.
CH4/Ar射频等离子体气相沉积碳—金刚石薄膜的结构分析
作者:
张贵锋 韩栋
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
140-145
摘要:
27.
双离子束动态共混法制备TaN薄膜及其性能研究
作者:
况园珠 闫军
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
146-150
摘要:
28.
低温溅射沉积TiN薄膜的实验研究
作者:
唐素筠 赵嘉学
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
151-155
摘要:
29.
多靶离子束溅射制备二元合金调制膜
作者:
张云 王文魁
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
156-163
摘要:
30.
射频磁控溅射沉积ZrO2—8%(wt)Y2O3薄膜XPS分析
作者:
蒋锦江 黄宁康
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1993年2期
页码: 
164-169
摘要:
共
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薄膜科学与技术基本信息
刊名
薄膜科学与技术
主编
曾用名
主办单位
南京电子器件研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
ISSN
CN
邮编
210016
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