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射频反应溅射沉积透明导电CdIn2O4薄膜
射频反应溅射沉积透明导电CdIn2O4薄膜
作者:
彭栋梁
蒋生蕊
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沉积
CdIn2O4
薄膜
射频
溅射
摘要:
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文献信息
篇名
射频反应溅射沉积透明导电CdIn2O4薄膜
来源期刊
薄膜科学与技术
学科
工学
关键词
沉积
CdIn2O4
薄膜
射频
溅射
年,卷(期)
1993,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
28-32
页数
5页
分类号
TN304.260
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CdIn2O4
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射频
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期刊影响力
薄膜科学与技术
主办单位:
南京电子器件研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
南京1601信箱43分箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
327
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1
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