微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
3266
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微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
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3266
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  • 作者: 邓宁 陈培毅
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  1-5,20
    摘要: 自旋电子学是近年来发展起来的微电子学和磁学的交叉学科,主要研究自旋极化电流的注入、控制和检测.本文介绍了自旋电子学和器件的研究进展,着重讨论了自旋注入和检测的问题,分析了自旋电子器件研究的核...
  • 作者: 郭树田
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  6-13,24
    摘要: 纳米电子学是纳米技术的重要科学基础,纳米电子学将成为21世纪信息时代的科学核心,将使未来社会产生重大变革.本文介绍了纳米电子学的基本概念、纳米电子学的产生、纳米电子学的研究内容、纳米器件的基...
  • 作者: 翁寿松
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  14-16,36
    摘要: 介绍了铜互连、金属间低K绝缘层和CMP工艺.ITRS2001/1999对铜互连、金属间低K绝缘层和CMP工艺提出了具体的要求和进程.ITRS2001比ITRS1999整整提前了一年.铜互连和...
  • 作者: 孙振翠 曹文田 王书运 薛成山 魏芹芹
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  17-20
    摘要: 利用热壁化学汽相沉积在Si基上生长GaN薄膜.用扫描电镜(SEM)、选择区电子衍射(SAED)、X射线衍射(XRD)、傅里叶红外透射谱(FTIR)和荧光光谱(PL)对样品进行形貌、结构、组分...
  • 作者: 宋秀芹 陈汝芬
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  21-24
    摘要: 用化学沉淀法合成Y2O3和CaO共掺杂的ZrO2均匀超细粉并讨论了反应条件对样品粒度的影响.通过TG-DTA,XRD,TEM和粒度分布仪等检测手段对产品进行了表征,结果表明,Y2O3含量为2...
  • 作者: 于军 付承菊 王耘波 郭冬云
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  25-28
    摘要: 铁电材料在微电子技术、光电子技术和集成光学等多个领域中具有极为重要的应用价值.本文简要介绍了铁电材料及其在MEMS器件方面的应用情况.
  • 作者: 姜岩峰 张晓波
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  29-31,43
    摘要: 研究了一种由多晶硅电阻、硅和金属层构成的双层弯曲热执行器.利用有限元方法计算了该执行器的纵向偏转和温度分布.为了提高精度,本文提出了一种三层结构的有限元模型,当用厚度为1 μm的硅和0.5μ...
  • 作者: 张少峰 陈花玲
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  32-36
    摘要: 分析了影响加速度计分辨率的因素,在此基础上,通过采用深度反应离子刻蚀工艺获得大的敏感质量和小的电极间隙、采用电容变化量比枝齿梳状敏感结构大一倍的直齿梳状敏感结构和利用静电负刚度来降低结构的刚...
  • 作者: 刘景春 李玉琮 邓永和
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  37-38
    摘要: 介绍了一种经特殊工艺处理的电容式压力微传感器,分析和论证了其结构设计、工作原理和测量电路.
  • 作者: 杨银堂 汪家友 温梁
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  39-43
    摘要: 近年来,低介电常数材料在IC工业中日益受到人们广泛关注,为了降低信号传输延迟和串扰以及由于介电损失而导致的功耗增加,采用低介电常数材料做层间介质是必要的.本文介绍了有关低介电常数材料薄膜的制...
  • 作者: 柯学 罗正全
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  44-46
    摘要: 在简述双面光刻对准系统原理的基础上,着重论述了如何利用DSP进行图像采集与处理,以实现底面曝光的高精度对准.
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  46
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年3期
    页码:  47
    摘要:

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

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1. 俄罗斯《AJ》收录
2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

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