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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
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3
总被引数（次）
19905
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  • 1. 一种新型彩色显像管会聚测量系统
    作者： 李晓华 杨晓伟 王琦龙 贾利涛 陈福朝
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  73-75
    摘要： 本文在系统分析会聚测量方法的基础上,着重对我们开发的一套新型的会聚测量设备进行了介绍和研究.该系统采用栅极脉冲电流、脉冲偏转,用微移动法消除荫罩影响修复光点.整套系统由计算机控制、采集、分析...
  • 2. 电双稳薄膜阻抗转变机理研究
    作者： 万星拱 华中一 李劲 蒋益明 谢亨博
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  76-78,84
    摘要： 采用真空蒸发的方法交替沉积Ag和TCNQ分子制备了Ag-TCNQ金属-有机络合物薄膜,并研究了多种外加电压激发下膜的电阻转变特性.发现在转变过程中存在着一种能量效应,即当外电压超过某一阈值后...
  • 3. SnO2/Fe2O3双层薄膜的界面结构及其对气敏特性的影响
    作者： 赵永生 阎大卫 马晓翠
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  79-84
    摘要： 本文给出用等离子化学气相沉积(PCVD)技术制备的SnO2/Fe2O3 双层薄膜结构的俄歇谱(AES)剖面分析、透射电镜(TEM)断面形貌和扫描电镜(SEM)表面形貌的实验研究结果.AES剖...
  • 4. 彩色PDP中的重复行技术及其实现
    作者： 孙鉴 梁宁 沈思宽
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  85-87,95
    摘要： 对于采用ADS技术的彩色PDP,增加子场数目能够有效地消除动态假轮廓的影响,但增加子场数目将使寻址时间增大、维持发光时间减少,从而使彩色PDP的亮度降低.采用重复行技术能够有效缓解寻址时间与...
  • 5. Ta/NiFe和NiFe/Ta界面反应和"死层"现象的研究
    作者： 于广华 司红 赵洪辰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  88-90,139
    摘要： Ta/Ni81Fe19和Ni81Fe19/Ta被广泛应用于磁电阻多层膜结构中.我们发现,在Ta/Ni81Fe19/Ta薄膜结构中,磁性"死层"的厚度大约为1.6±0.2 nm.用X射线光电子...
  • 6. H13钢电弧沉积铝膜及强流脉冲电子束后处理的复合改性研究
    作者： 刘振民 吴爱民 李茂原 董闯 邹建新
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  91-95
    摘要： 本文介绍电弧沉积与强流脉冲电子束后处理相结合的表面复合处理工艺,并应用在H13钢的表面快速合金化.我们首先采用电弧离子镀的方法在H13钢表面沉积了约10 μm厚的纯铝层,然后用强流脉冲电子束...
  • 7. 21世纪真空科学技术的展望
    作者： 林主税
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  96-100
    摘要： 某混沌理论学家曾说过:"如果一只鸭在北京叫一声,那么在远隔数千里的地方,天气就会变".正是20世纪物理学家们的一声声"叫唤",世界上各个角落都发生了翻天覆地的变化.真空科学是从与宇宙世界观有...
  • 8. 用弹性电子测量能谱仪能量分辨率和电子倍增器的工作曲线
    作者： 吴正龙
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  101-103
    摘要： 重点介绍了利用弹性二次电子方便快捷地测量多功能电子能谱的能量分辨率和通道倍增器的工作曲线.并与常规方法进行了比较,结果一致.测量发现当电子束流增大到一定程度时,测出的弹性电子峰严重畸变,电子...
  • 9. 外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响
    作者： 朱炎 狄国庆 赵新民
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  104-106
    摘要： 通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响.实验发现,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布,因而靶的刻蚀环的位置、宽度和深度均发生了明显的变化,靶的利用率在S...
  • 10. 维持电压脉宽和频率对AC-PDP放电特性的影响
    作者： 刘纯亮 杜春艳 梁志虎
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  107-110
    摘要： 为优化交流等离子体显示器的维持电压波形,采用静态测量法研究了维持电压脉宽和频率对着火电压、熄火电压、记忆余裕度、记忆系数等放电特性的影响.实验结果表明,当脉宽大于2 μs时,随着脉宽和频率的...
  • 11. 纳米管场发射的电场计算
    作者： 杨楠 王万录 王乐 胡陈果
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  111-115
    摘要： 利用电磁场理论计算出单根纳米管场发射时其尖端附近的电势和电场分布.结果表明,纳米管尖端表面电场非常强,随着距离尖端表面的距离的增加,电场迅速下降;尖端附近的场强与纳米管场发射有低的阈值电压相...
  • 12. 用射频磁控溅射法在二氧化硅衬底上制备磁光Ce∶YIG薄膜
    作者： 兰中文 孔祥栋 王巍 王豪才 秦跃利 高能武
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  116-119
    摘要： 使用射频磁控溅射法在非晶态的二氧化硅衬底上制备Ce1YIG磁光薄膜.生成的Ce1YIG薄膜为非晶态形式,经过后续的热处理过程,转变为晶化薄膜,在用波长为630 nm的激光测量时,薄膜的饱和法...
  • 13. 采用金属镓层氮化技术在石英衬底上生长多晶GaN
    作者： Nasser N.Morgan 叶志镇 赵炳辉 邵庆辉 顾星 黄靖云
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  120-122
    摘要： 随着多晶GaN材料发光研究的不断深入,大面积、价格低廉的多晶GaN基光电器件的研制已成为工业生产中一个重要的研究领域.石英玻璃以其自身特有的优势,成为生长多晶GaN材料的较为理想的衬底.本文...
  • 14. 离子束辅助沉积Al2O3薄膜的微观状态及其物理特性研究
    作者： 张庆瑜 徐久军 朱剑豪 王亮 王平生 赵文军
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  123-128
    摘要： 本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2O3薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化,并对Al2O3薄...
  • 15. 氧压对PLD法硅上生长c轴取向LiNbO3晶体薄膜的影响
    作者： 何军辉 卢焕明 叶志镇 王新昌 赵炳辉 顾星 黄靖云
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  129-131,135
    摘要： 本文采用脉冲激光沉积(PLD)法在Si衬底上生长c轴取向LiNbO3(LN)晶体薄膜,研究氧气压强对薄膜质量的影响.结果表明,氧压是生长c轴择优取向LN薄膜的一个重要影响参数.X射线衍射和透...
  • 16. 中频反应磁控溅射TiO2薄膜对敌敌畏的光催化降解性能
    作者： 刘家浚 吴敏生 庄大明 张弓 方玲 赵明
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  132-135
    摘要： 作者利用中频反应磁控溅射技术制备了厚度低于400 nm的TiO2薄膜,并对其在紫外线作用下对敌敌畏(DDVP)的光催化降解性能进行了系统的研究.实验结果显示:敌敌畏的降解速率与光照时间和紫外...
  • 17. O型圈的原子氧剥蚀效应实验研究
    作者： 周汝胜 张建斌 邵新杰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  136-139
    摘要： 通过对O型圈的原子氧暴露实验研究,发现经过原子氧作用后,O型圈的表面粗糙度和质量损失率均随原子氧等效累积通量的增大而增大.
  • 18. 微波集成电路(MIC)中Au/NiCr/Ta多层金属膜粗糙化机理的AFM研究
    作者： 唐武 徐可为 李弦 王平
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  140-142
    摘要： Au/NiCr/Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上.XRD分析其晶体取向,SEM观察薄膜断面形貌,AFM研究薄膜表面粗糙度.结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关,随着沉积温...
  • 19. CPT管壳在排气炉内炸裂的原因分析
    作者： 戚长政
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  143-146
    摘要： 本文建立了CPT管壳有限元计算模型,以计算的机械应力和热应力为依据,分析了CPT管壳在排气炉内炸裂的原因,为合理制定在排气过程中升、降温工艺路线,正确设计CPT管壳等提供了参考依据.

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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