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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
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19905
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  • 1. 射频激励铜离子激光器的功率消耗
    作者： 刘正之 吕宽洲 黄建军
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  299-302,327
    摘要： 通过对射频激励激光器放电电压、电流以及相位的精确测量,基于射频放电等离子体等效电路,得出等离子体总电阻(包括等离子体总电阻和鞘层电阻分量),经非线性最小平方拟合分别得到等离子体电阻和鞘层电阻...
  • 2. 液氮制冷低气压试验箱的仿真设计
    作者： 孔宪贵 翟唤春 赵鑫
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  303-306
    摘要： 在采用液氮制冷的低气压试验箱的设计中,用常规工程设计方法计算的降温过程冷负荷过大,从而导致真空系统设计容量过大.本文采用分布参数模型对试验箱低气压条件下降温过程的冷负荷进行了精确仿真模拟,以...
  • 3. GaAs和(Cs,O)/GaAs热处理工艺的XPS研究
    作者： 房红兵 汪贵华
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  307-310
    摘要： 用X射线光电子能谱(XPS)研究了GaAs(100)面基片的化学清洗、热净化、(Cs,O)激活后加热的处理效果.GaAs的氧化过程是:首先,As氧化为低价态,然后Ga被氧化,再就是As氧化为...
  • 4. PAR薄膜阻抗转变规律的研究
    作者： 万星拱 李劲 蒋益明 谢亨博 郭峰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  311-314
    摘要： 采用真空蒸发的方法制备了PAR薄膜,研究了不同外电路参数下薄膜的电双稳特性.发现薄膜在从高阻向低阻转变时会经历一个短暂的具有非线性阻抗的中间态,并且在整个转变过程中存在一种能量效应,即当外加...
  • 5. 热水解法制备Fe2O3纳米粒子及其在Si表面的分散
    作者： 侯士敏 周宏梁 申自勇 薛增泉 赵兴钰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  315-318
    摘要： 用快速热水解的方法，制备直径小于10 nm的单分散Fe(OH)3胶体粒子。X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)衍射分析表明：Fe(OH)3胶体粒子脱水后转变为Fe2O3纳米粒子。用离心分...
  • 6. Ag-MgF2复合纳米金属陶瓷薄膜的微粒尺寸效应
    作者： 孙兆奇 王佩红 王磊 蔡琪
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  319-322,327
    摘要： 本文用Maxwell-Garnett 有效介质理论计算了不同体积成分比的Ag-MgF2复合纳米金属陶瓷薄膜在250 nm～830 nm波段的光学常数,考虑了由于金属颗粒尺寸对其内部传导电子平...
  • 7. 多壁碳纳米管气敏性质的研究
    作者： 万步勇 余鹏 吴子华 孙鹏 廖克俊 王万录 王永田
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  323-327
    摘要： 本文对多壁碳纳米管薄膜在外界中的气敏性质进行了研究.实验结果表明,空气中,多壁碳纳米管薄膜对水分子的吸收是最主要的作用,并讨论了其气敏性质与薄膜比表面积及化学修饰之间的关系.
  • 8. "信号调制法"研究电子诱导脱附--基本原理及误差分析
    作者： 崔一平 张彤 杨学谦 毛福明 胡安
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  328-330
    摘要： 电子诱导脱附是近年来在真空科学与表面科学领域内的热门研究课题.它不仅作为研究和探讨原子激发过程以及电子能量传输机制的有效手段,而且已经逐渐成为获取表面和界面结构、状态等信息的有效方法."信号...
  • 9. N2在多晶Ni表面电子诱导脱附的实验研究
    作者： 崔一平 张彤 杨学谦 毛福明 胡安
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  331-333,346
    摘要： 电子诱导脱附是近年来在真空科学与表面科学领域内的热门研究课题.电子诱导脱附不仅作为研究和探讨原子激发过程以及电子能量传输机制的有效手段,而且已经逐渐成为获取表面和界面结构、状态等信息的有效方...
  • 10. 温度传感功能薄膜技术
    作者： 刘希东 巴德纯 张以忱 高航
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  334-339,346
    摘要： 随着科学技术的不断进步,人们对温度信息获取的手段提出了新的要求,对温度传感器超小型化的要求越来越迫切,薄膜传感器的出现满足这一要求.薄膜温度传感器由于其优异的性能,在工业生产中越来越得到广泛...
  • 11. 化学气相沉积铜薄膜研究进展
    作者： 王琦 陶波
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  340-346
    摘要： 本文综术了集成电路工艺的Cu布线中Cu薄膜化学气相沉积(CVD)的研究背景,详细介绍了CVD生长Cu金属薄膜的国内外研究进展及CVD对前趋物的要求,并对前趋物的一些物理、化学性质进行了总结,...
  • 12. 直流溅射中氮气分量对氮化锆薄膜性质的影响
    作者： 李德杰 胡莉莉
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  347-349
    摘要： 用直流溅射方法制备氮化锆薄膜,其晶体结构,氮原子组分以及电阻率都与溅射气氛中氮气分量有直接关系.用X射线衍射分析薄膜结构,随氮气分量由5%至30%增加,玻璃衬底上的氮化锆薄膜首先呈(111)...
  • 13. 离子束外延生长(Ga,Mn,As)的退火研究
    作者： 刘志凯 周剑平 宋书林 杨少延 柴春林 陈诺夫
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  350-352
    摘要： 利用俄歇电子能谱(AES)和X射线衍射(XRD)分析了室温条件下离子束外延生长Ga、Mn、As样品,在不同的温度条件下进行退火后组分和元素分布的变化.结果表明退火有助于样品内部元素的均匀分布...
  • 14. Zn0.85Co0.15O薄膜的制备及其结构分析
    作者： 刘艳美 周圣明 李爱侠 苏凤莲 赵宗彦
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  353-355
    摘要： 用电子束蒸镀方法在(100)单晶Si衬底上,生长Zn0.85Co0.15O薄膜,并研究了衬底温度对薄膜质量的影响,结果表明当衬底温度为400 ℃时,外延膜取向性最好,且其(002)衍射峰半高...
  • 15. 电子透射膜的生成及其对微通道板性能的影响
    作者： 闫金良
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  356-358,368
    摘要： 研究采用有机衬底掩膜技术和冷基底直流溅射在多孔微通道板输入面制备非晶态Al2O3电子透射膜的可行性,讨论在微通道板输入面形成连续电子透射膜与气体辉光放电的关系,测量带膜微通道板的电特性.结果...
  • 16. 无碳污染微通道板电子透射膜的工作特性
    作者： 闫金良
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  359-361
    摘要： 利用静电贴膜技术在MCP输入面制备了4 nm厚Al2O3非晶态电子透射膜,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染.探讨了贴膜与气体辉光放电的关系,测量了MCP电子透射膜的电子透过特性和离子阻挡...
  • 17. 光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作
    作者： 傅绍军 徐向东 洪义麟
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  362-364,372
    摘要： 针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位...
  • 18. 新型钡钨阴极的发射性能研究
    作者： 丁耀根 张红卫 白振纲
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  365-368
    摘要： 本文研究了新型钡钨阴极发射性能,并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构.该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴极生产工艺,而且发射性...
  • 19. 真空蒸馏脱硒的研究
    作者： 杨斌 金世平 顾玉丽 魏剑 黄占超
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年5期
    页码:  369-372
    摘要： 本文从理论上分析了真空蒸馏脱Se的影响因素时间和温度,并通过实验给予验证,提出了最佳条件,对工业采用真空蒸馏脱出含Se物料中的Se具有一定的指导性.

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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