真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量(篇)
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19905
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  • 作者: 刘保亭 张新 赵庆勋 边芳 闫小兵 闫正 马良
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  177-180
    摘要: 应用非晶的Ti-Al薄膜作为导电阻挡层,通过溶胶-凝胶法和磁控溅射法成功地在Si基片上制备了La0.5Sr0.5CoO3/Pb(Nb0.02Zr0.39Ti0.59)O3/La0.5Sr0....
  • 作者: 徐均琪 梁海锋 苏俊宏 谢松林
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  181-184
    摘要: 随着高能量大功率激光器的发展和激光元件的广泛应用,用于红外窗口表面增透保护的类金刚石薄膜(DLC)的抗激光损伤特性成为评价薄膜质量优劣的一个重要指标.然而,不同的制备方法和技术沉积的DLC薄...
  • 作者: 李廷举 殷国茂 金文中
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  185-189
    摘要: 为了提高高温合金母合金锭的内在质量,本文提出了高温合金的真空电磁铸造技术,并建立了表示高温合金真空电磁铸造凝固过程中液态金属补缩能力的数学模型.利用该模型比较了K417高温合金真空电磁铸造和...
  • 作者: 廖敏夫 段雄英 邹积岩
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  190-194
    摘要: 从双断口真空开关的等值模型出发,分析了双断口真空开关的动态介质恢复过程,说明只要恢复电压的峰值和上升速度低于某一极限值,整个双断口真空开关并不会因为一个灭弧室发生重击穿而导致开断失败.这是因...
  • 作者: 孙兆奇 宋学萍 曹春斌 江锡顺 蔡琪
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  195-199
    摘要: 用直流磁控溅射法制备了氧铟锡(ITO)薄膜.采用XRD、TEM、XPS对薄膜的微结构和化学组分进行了测试分析.分析结果表明:制备的薄膜中,Sn元素已固溶到In2O3晶格形成了多晶ITO.延长...
  • 作者: 刘绪伟 卢景霄 杨仕娥 谷锦华 赵剑涛 郜小勇 陈永生
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  200-202
    摘要: 采用PECVD技术,在玻璃衬底上低温沉积了优质本征纳米硅薄膜,并利用Raman光谱对其微结构作了表征.研究结果表明,硅烷浓度、衬底温度Ts对表征纳米硅薄膜微结构的晶化率和平均晶粒尺寸参数影响...
  • 作者: 吴卫东 唐永建 孙卫国 朱永红 罗利霞
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  203-207
    摘要: 在CH4/He体系下,利用光学发射谱技术,对螺旋波放电产生低压甲烷等离子体内活性粒子的光学发射特征进行了原位测量.根据甲烷离解后产生的所有可能基、团的对称性、构造并分析了甲烷离解的所有可能反...
  • 作者: 丁耀根 俞世吉 孟鸣凤 胡太康
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  208-212
    摘要: 本文使用ANSYS软件的热分析模块研究阴极热子组件温度分布,发现氧化铝粉与阴极、支撑筒之间的接触热阻是引起热子温度大幅提升的主要因素,模型计算结果与实验测量结果比较吻合.优化接触面传热性能是...
  • 作者: 刘乃康 吕文辉 宋航 李志明 缪国庆 蒋红 赵海峰 赵辉 金亿鑫
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  213-217
    摘要: 基于电泳和半导体工艺,制备了图形化的碳纳米管场发射阴极.用较高的电场激活碳纳米管薄膜,使得碳纳米管的场发射特性有了很大的改善,讨论了这一激活过程的物理机制.研究表明,这一激活过程可能的物理机...
  • 作者: 付绍军 周红军 尉伟 徐向东 王勇 裴元吉
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  218-221
    摘要: 利用离子束刻蚀(IBE)和反应离子刻蚀(RIE)等于法刻蚀方法来制造带栅极的场发射阴极阵列.本文描述了其制作的流程工艺,并对制作中的一些关键问题和技术进行了讨论.采用SF6作为反应气体的RI...
  • 作者: 常本康 杨智 邹继军 高频
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  222-225
    摘要: 进行单晶基片和分子束外延(MBE)片两种GaAs(100)光电阴极材料高、低温激活实验,高温处理温度为600℃,低温处理温度分别为580℃、450℃和410℃,阴极每次激活后都利用多信息量测...
  • 作者: 丁耀根 杨景华 王勇 王树忠 阮存军
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  226-229
    摘要: 本文系统地阐述了均匀场聚焦带状电子注的传输理论,设计了柱面阴极皮尔斯电子枪,模拟显示轨迹的层流性较好;设计了产生均匀磁场的磁聚焦结构,在1 m长的距离内,成功地实现了X波段100 MW带状电...
  • 作者: 任小玲 许世军
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  230-235
    摘要: 为提高光电极值法膜厚监控质量,对微弱光电探测信号设计一套优化的电路处理和数字处理系统.基于双光束镀膜监控思想,提出三级模拟放大电路、双锁相对称放大电路、综合抗干扰技术、数字除法、防脉冲干扰数...
  • 作者: 张德恒 徐慧 肖剑荣 马松山
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  236-240
    摘要: 以CF4和CH4为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜,并进行了退火处理.红外分析表明,F-DLC薄膜中主要有C-Fx(x=1,2,3...
  • 作者: 展长勇 杜纪富 黄宁康
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  241-245
    摘要: 分别采用O+和Ar+离子束轰击的动态离子束混合技术,在不锈钢基体上制备钛的氧化物薄膜.经X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)分析,研究这两种工艺制备薄膜的化学组成和价键状态.结...
  • 作者: 张跃飞 汤文杰 葛袁静 陈强
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  246-249
    摘要: 用马来酸酐乙醇溶液为单体,采用脉冲介质阻挡放电(DBD)合成聚马来酸酐薄膜,研究了放电的不同频率,聚合的区域对聚合薄膜性能的影响.通过对薄膜性能的表征:接触角、红外光谱、表面形貌、薄膜厚度,...
  • 作者: 卢景霄 吴芳 张丽伟 李红菊 杨根 汪昌州 谷锦华 陈永生
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  250-253
    摘要: 本文采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术高速沉积微晶硅薄膜.系统研究了射频功率、气体总流量、沉积气压、硅烷浓度等沉积参数对薄膜沉积速率和晶化率的影响.通过沉积参数的优化,...
  • 作者: 刘贵昂 杨贵进 郑妃盛
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  254-258
    摘要: 采用射频磁控溅射法,在室温和不同功率条件下,在soda-lime玻璃衬底上成功制备出TiO2薄膜.运用X射线衍射(XRD)仪、能谱仪、拉曼(Raman)光谱仪、PL光谱、紫外-可见(UV-V...
  • 作者: 刘向力 崔江涛 杨士勤 田修波 胡新东
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  259-263
    摘要: 采用直流磁控溅射在钢基体上制备了钽薄膜,研究了溅射气压和电流对钽膜相结构、表面形貌、硬度以及耐磨性的影响.XRD结果表明:钽膜主要由α(体心立方结构)+β(四方体结构)混合相组成,在合适的实...
  • 作者: 吕慎水 姚玉元 杜莉娟 陈文兴
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  264-268
    摘要: 本文采用直流磁控溅射在无纺布基底上溅射沉积金属铜来制备电磁屏蔽织物.通过原子力显微镜观察发现,工艺参数对溅射沉积速率以及膜层的表面形貌都有较大的影响.在一定范围内,溅射功率越大,沉积速率越大...
  • 作者: 何新智 孙明礼 李德才 郝瑞参
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  269-272
    摘要: 介绍了磁性液体密封的理论,并应用ANSYS有限元分析软件对一个三槽四齿密封结构进行磁场有限元分析,并进一步对极齿尺寸进行优化设计.通过对计算结果进行的分析和讨论,结果表明,转轴侧极齿处与两侧...
  • 22. 信息
    作者:
    发表期刊: 2007年3期
    页码:  插页,272
    摘要:

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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