真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905
文章浏览
目录
  • 作者: 丁明清 冯进军 张甫权 李兴辉 白国栋 邵文生 陈长青
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  363-366
    摘要: 本文介绍了一种微图形化碳纳米管场发射阵列冷阴极,每个图形的直径仅为1 μm,构成一个发射单元.制作工艺如下:首先在硅(100)基片上沉积氮化钛缓冲层,然后采用曝光工艺获得直径为1 μm的胶孔...
  • 作者: 刘桐 张学华 曹猛 李德军 杨瑾 王明霞 邓湘云
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  367-369
    摘要: 本研究选择钽和钒的氮化物作为个体层材料,利用射频磁控溅射系统制备TaN、VN及一系列的TaN/VN多层薄膜.通过XRD和纳米力学测试系统分析了该体系合成以后的晶体结构、调制周期对力学性能的影...
  • 作者: 刘同娟 顾文琪 马向国
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  370-376
    摘要: 液态金属离子源的发射系统是源设计当中一个十分重要的因素,它的性能的优劣将直接影响到整个离子源的发射特性,进而影响整个聚焦离子束设备的工作性能.因而,在离子源的设计过程中,人们希望通过仿真手段...
  • 作者: 佟洪波 巴德纯 闻立时
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  377-379
    摘要: 研究了用反应磁控溅射的方法制备氮化铝薄膜.由于铝和氮化铝二次电子发射系数有很大的不同,导致制备时会在金属模式和化合物模式间出现一个很大的跃迁.为了准确描绘实验结果,建立了一个反应溅射模型.该...
  • 作者: 朱兆君 杨赤如 贾宝富 辛玉霞
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  380-385
    摘要: 基于人工神经网络(ANN)的皮尔斯电子枪初值设计方法,不但能有机地结合迭代综合法与非迭代综合法的优点,还能把前人体现在实验数据中的设计经验通过训练样本融入到其中,从而设计出很接近实验值的新电...
  • 作者: 周立勋 张鹰 朱俊 李言荣 罗文博 黄文
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  386-390
    摘要: 用激光分子束外延(LMBE)设备,在SrTiO3(001)基片上外延生长BaTiO3/CoFe2O4/BaTiO3多层复合磁电薄膜结构.通过反射式高能电子衍射(RHEED)对薄膜生长过程进行...
  • 作者: 张丁 曹静 沈斌 缪亦珍
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  391-394
    摘要: 输出腔外观品质因数Qext的计算是速调管设计中非常重要的一步,本文提出群时延时间法主要是利用Microwave Studio(MWS)软件计算输出腔外观品质因数Qext.通过对比,群时延时间...
  • 作者: 吴太权 毛宏颖 胡昉 鲍世宁
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  395-399
    摘要: 利用第一性原理确定了四苯基卟啉分子的结构模型,结果表明分子中的苯环与卟吩骨架的夹角为55°,且苯环的自由旋转导致卟吩骨架略微偏离平面形状.再利用紫外光电子谱(UPS)研究了四苯基卟啉在Ru(...
  • 作者: 尉秀英 杜军 毛昌辉 熊玉华 秦光荣 苑鹏
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  400-404
    摘要: 用粉末冶金工艺制备了一种改性的锆石墨类吸气剂,研究了激活工艺和吸气剂表面气体压强对该吸气剂吸气性能的影响.结果表明:该类吸气剂具有优越的室温吸气性能.高温短时间的激活效果优于低温长时间.增加...
  • 作者: 何晓雄 李洋 矫妹 许高斌
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  405-412
    摘要: 静电型微继电器采用静电致动原理,以静电力作为触点吸合的驱动力.在分析纵向静电型微继电器工作原理和Pull-in模型的基础上,给出了当前国内外典型的静电型继电器结构,阐述了这些微继电器的技术特...
  • 作者: 巴德纯 段永利 范垂祯 许生 高文波
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  413-417
    摘要: 本文采用中频反应磁控溅射方法在玻璃表面制备了TiO2薄膜,为使反应溅射的工作点能够稳定在"过渡区",得到较高的薄膜沉积速率,使用了等离子体发射光谱监控法(Plasma Emission Mo...
  • 作者: 代明江 侯惠君 朱霞高 李洪武 林凯生 林松盛
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  418-421
    摘要: 采用无灯丝离子源结合非平衡磁控溅射的方法,在模具钢及单晶硅基体上制备了梯度过渡的掺钛类金刚石(Ti-DLC)膜层,利用俄歇电子谱(AES)、透射电镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)及X...
  • 作者: 孙若男 庄大明 张弓
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  422-425
    摘要: 利用中频磁控溅射法,溅射氧化锌钇(ZYO)陶瓷靶材,在玻璃基底上制备ZYO透明导电薄膜.研究了氧化钇掺杂量和基底温度对薄膜的结构、电学性能和光学性能的影响.并分析和探讨了工艺因素与结构和性能...
  • 作者: 侯国付 刘丽杰 段苓伟 王雅欣 耿新华 薛俊明 赵颖
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  426-429
    摘要: 用磁控溅射法制备ZnO:Al透明导电膜时,降低靶电压可以减少溅射等离子体中被靶背反射回的中性离子和负氧离子对基片的轰击,提高薄膜的质量,降低薄膜电阻.本文研究了用中频脉冲直流溅射法和Zn:A...
  • 作者: 何万万 姜有燕 屠彦 张雄 李青 杨兰兰 樊兆雯 王保平
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  430-433
    摘要: 本文讨论了一种新颖的不对称荫罩式等离子体显示板.在结构上,它与现有的荫罩式等离子体显示板(SMPDP)不同的是,荫罩上每个单元的后开口对称中心偏离其前开口对称中心.通过对4"实验板的制作、测...
  • 作者: 阮世平
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  434-436
    摘要: 当真空荧光显示器的阴极直流驱动时,其电位随位置的不同而变化,结果导致发光亮度的不均匀;阳极电压比较低时,显示屏二端的发光亮度相差近42%.本文通过改变栅极到阴极距离对发光亮度变化的分析;指出...
  • 作者: 刘燕文 孟鸣凤 张哓伟 张洪来 徐振英 王晓艳 田宏 赵青兰 陆玉新 韩勇
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  437-441
    摘要: 提出了采用飞行时间质谱(ToFMS)分析阴极蒸发的成分和速率的新方法.利用ToFMS测试了真空本底、氧化物阴极、浸渍阴极、覆膜阴极等各种阴极蒸发物的成分.研究了阴极蒸发速率与阴极温度和加热时...
  • 作者: 冯焱 张涤新
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  442-445
    摘要: 设计了基于恒压自动控制的正压漏孔校准装置,装置由供气和稳压系统、抽气系统、校准系统、测量与控制系统、恒温系统等五部分组成,可采用比例积分微分(PID)控制模式和压力微小波动控制模式校准正压漏...
  • 作者: 刘坤 巴德纯 常学森 张振厚 杨乃恒 王光玉
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  446-449
    摘要: IC装备制造业是国家发展战略的重要行业.在该行业中,70%的工作需要在对洁净度要求苛刻的真空环境下进行.而在用于IC装备制造业的干式罗茨泵中,一对罗茨转子的生产成本占总成本的40%左右.罗茨...
  • 作者: 张世伟 彭润玲 徐成海 李全顺 赵雨霞
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  450-453
    摘要: 以液态、浆态和固态三种不同类型的物料为对象,通过大量实验研究了真空室压力、物料含水量和尺寸对抽真空自冻结的降温速率和对冻结最终温度的影响规律.结果发现不同物料要达到抽真空自冻结的目的,首先物...
  • 作者:
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  插1
    摘要:
  • 作者:
    发表期刊: 2007年5期
    页码:  插1
    摘要:

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

被引趋势
(/次)
(/年)
学科分布
研究主题
推荐期刊