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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
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19905
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  • 1. 类金刚石膜形态的分子动力学模拟研究
    作者： 张宇军 曾群锋 毛军红 董光能 谢友柏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  455-459
    摘要： 类金刚石膜(Diamond-like carbon,DLC)优异的性能与碳原子sp2、sp3杂化密切相关.本文采用分子动力学方法,分别模拟计算了以C原子和CH3原子团为主要沉积物,在不同入射...
  • 2. 直流反应磁控溅射法制备CdIn2O4薄膜的光电性能研究
    作者： 吴苏友 孙建生 张淑芳 徐勤涛 方亮 杨丰帆 董建新
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  460-466
    摘要： 利用直流反应磁控溅射法制备了CdIn2O4(CIO)薄膜,研究了氧浓度、基片温度、溅射时间和退火处理对薄膜光电性能的影响.结果表明:电阻率随着氧浓度的增加和溅射时间的减小而增加,随着基片温度...
  • 3. RF-PCVD法制备纳米Al2O3粉体动力学模型
    作者： 王俊文
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  467-470
    摘要： 本文采用RF-PCVD法,分析了富氧高频等离子反应器内反应物AlCl3的高温氧化反应、产物Al2O3气相成核及晶粒长大过程,认为晶粒的长大过程为制备过程的主要步骤.采用Brownian碰撞理...
  • 4. Al、N共掺Zn1-xMgxO薄膜的制备与性能研究
    作者： 卢洋藩 叶志镇 简中祥 胡少华 赵炳辉 高国华
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  471-474
    摘要： 采用直流反应磁控溅射方法,由氨气和氧气的混合气体在玻璃和单晶硅衬底上制备Al、N共掺Zn1-xMgxO薄膜.采用XRD、FE-SEM、Hall实验、UV-VIS透射谱以及EDS等方法对共掺Z...
  • 5. 利用HWCVD在柔性衬底上制备多晶硅薄膜
    作者： 常艳 杨德仁 汪雷 陈官壁
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  475-478
    摘要： 通过热丝化学气相沉积法(Hot Wire Chemical Vapor Deposition,HWCVD),采用间歇供应硅烷气体,持续通入氢气的方式控制硅薄膜的生长,发现该方法在有机衬底上生...
  • 6. 沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO2薄膜性能的影响
    作者： 张文杰 朱圣龙 李瑛 杨丽丽 王福会
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  479-484
    摘要： TiO2薄膜具有许多独特的性能,作为一种令人满意的材料被应用于诸多领域.磁控溅射作为制备这种多功能薄膜的一种主要方法,也越来越引起人们的关注.TiO2薄膜的结构和性能是由沉积条件决定的.通过...
  • 7. 氢致过渡族金属及合金薄膜的光电性能变化
    作者： 孙大林 张晶 方方 朱健 郑时有 陈国荣
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  485-492
    摘要： 某些金属薄膜的光电学性能随着吸氢量的变化而变化.本文综述了国内外对这一现象的最新研究进展,重点介绍纯稀土元素、稀土-镁、镁-镍等合金薄膜的制备和氢致光电学性能变化及其潜在应用价值.
  • 8. 平面直流磁控溅射放电等离子体模拟研究进展
    作者： Finely Jim Jiao Yu 励庆孚 苏静静 邱清泉
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  493-499
    摘要： 放电等离子模拟是平面直流磁控溅射装置系统仿真的一个重要的子过程.本文根据模型的种类,求解问题的维数以及自洽性对磁控放电等离子体模拟方法进行了分类,并通过介绍不同种类的仿真模型,诸如动力学模型...
  • 9. 离子束辅助沉积改善铝薄膜的取向生长
    作者： 曾飞 潘峰 谷宇 高阳
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  500-503
    摘要： 高性能的铝薄膜因具有低的声阻抗而广泛应用于声表面波器件的制备.本文运用Ar离子束辅助沉积技术,在64°Y-X切向的铌酸锂基片上成功的制备出(111)高度取向的铝薄膜,并研究了Ar离子魄注入角...
  • 10. 离子束溅射沉积Co纳米薄膜表面特征AFM、XPS分析
    作者： 何丽静 李晓惠 林晓娉 王晓东
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  504-507
    摘要： 采用离子束溅射沉积法,在单晶Si基片上制备了不同厚度(1 nm～100 nm)的Co纳米薄膜.利用原子力显微镜和X射线光电子能谱仪对不同厚度的Co纳米薄膜的表面进行了分析和研究.结果表明:当...
  • 11. Mn或Cu掺杂非晶AlN薄膜的光致发光特性
    作者： 佟洪波 巴德纯 闻立时
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  508-510
    摘要： 研究了Mn或Cu掺杂的非晶AlN薄膜在室温下的发光性质.Cu或Mn掺杂的非晶AlN薄膜是在玻璃衬底上采用中频反应磁控溅射制备的.X射线衍射(XRD)结果表明薄膜为非晶.由X射线能谱(EDX)...
  • 12. 磁控溅射低温制备ZnO∶Al透明导电膜及其特性研究
    作者： 丁芃 刁训刚 武哲 王涛 舒远杰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  511-516
    摘要： 采用锌、铝(Al 2 wt.%)合金靶,真空腔温度保持在50 ℃,运用直流反应磁控溅射法制得系列的ZnO∶Al (ZAO)薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计...
  • 13. 脉冲偏压对电弧离子镀深管内壁沉积TiN薄膜的影响
    作者： 张敏 林国强 石昌仑
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  517-521
    摘要： 用电弧离子镀设备,分别采用直流偏压和脉冲偏压的沉积工艺,在一端封口的50 mm×200 mm×5 mm的不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜,对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、硬度和磨损性能等随管...
  • 14. 阴极热丝组件中辐射换热量的改善
    作者： 万宝(騑) 王佩筠 鲍际秀
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  522-525,530
    摘要： 采用辐射换热的网络法分析和计算间热式阴极组件辐射的热耗散,并通过高温计测温、近距离平板二极管试验证实了理论模型的准确性.理论分析表明,在两板间插入一块与其发射率相同的遮热板后,两板之间的辐射...
  • 15. 电感耦合等离子体(ICP)辅助射频磁控溅射沉积ZrN薄膜的结构和性能研究
    作者： 任兆杏 刘峰 孟月东 沈克明 舒兴胜
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  526-530
    摘要： 利用电感耦合等离子体(ICP)辅助射频磁控溅射技术,在Si(111)片表面制备了ZrN薄膜.研究发现,随着ICP功率的增大,基片的电流密度增大,薄膜的致密度增大,粗糙度降低.XRD结果表明:...
  • 16. 氧化铝的加热荷电补偿研究
    作者： 付景永 吉元 张隐奇 徐学东 王丽 钱鹏翔
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  531-534
    摘要： 在环境扫描电镜(ESEM)中配置加热台,对Al2O3样品进行加热实验.结果表明,Al2O3表面的荷电效应随温度的稳定升高而逐渐减小.当温度上升至～360 ℃时,荷电效应完全消除,得到清晰的二...
  • 17. 介质阻挡放电等离子体中HO2自由基的红外光腔衰荡光谱原位诊断
    作者： 刘忠伟 徐勇 朱爱民 杨学锋 王卫国 赵国利
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  535-539
    摘要： 建立了一套以可调谐半导体激光器做光源的连续波光腔衰荡光谱装置,简单介绍了连续波光腔衰荡光谱技术与脉冲光腔衰荡光谱技术的区别.将连续波光腔衰荡光谱技术与介质阻挡放电等离子体技术相结合,对等离子...
  • 18. 电子能量损失谱及其在纳米多层膜研究中的应用
    作者： D.G.McCulloch D.R.Mckenzie M.M.M.Bilek P.C.T.Ha 代明江 刘敏 周克崧 肖晓玲
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  540-544
    摘要： 本文介绍了电子能量损失谱的基本原理、能量过滤成像分析及应用电子能量损失谱计算碳同素异构体的电子密度和sp2键结构的含量.同时应用透射电镜(TEM)和电镜配置的能量过滤成像系统(gatan i...
  • 19. 金属基体上硬质薄膜内应力的释放测量法
    作者： 吴莹 戴嘉维 李戈扬 黄碧龙
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  545-548
    摘要： 提出了一种基于Stoney公式测量金属基体上硬质薄膜内应力的应力释放法,并研究了不同基底温度对磁控溅射TiN薄膜内应力的影响.
  • 20. 液体真空制冷的理论分析及实验验证
    作者： 左然 戴剑侠
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  549-552
    摘要： 本文建立了真空制冷的数学模型,对绝热和有热交换情况下的真空制冷过程进行了理论分析,推导了两种情况下液体温度随时间的变化函数;讨论了影响液体温度变化的各种参数,其中系统压强ps、液体初始温度T...
  • 21. 上海光源(SSRF)输运线真空系统设计
    作者： 张海鸥 王志山
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  553-556
    摘要： 本文介绍了上海光源高能输运线和低能输运线真空系统设计,包括总体布局,真空盒的结构和真空获得系统.低能输运线由两个弯段和三个直线段组成,高能输运线由五个弯段和四个直线段组成.用有限元方法分析计...
  • 22. 《真空科学与技术学报》征稿说明
    作者：
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2007年6期
    页码:  插1
    摘要：

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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