第4页_真空科学与技术学报2008年出版文献-钛学术文献服务平台

文献导航

检索期刊

出版文献量（篇）

4084

总下载数（次）

总被引数（次）

19905

真空科学与技术学报

投稿

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

曾用名：真空科学与技术

CA CSCD JST CSTPCD

影响因子 0.3586

本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。

主办单位：

中国真空学会

ISSN：

1672-7126

CN：

11-5177/TB

出版周期：

月刊

邮编：

100022

地址：

北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

出版文献量（篇）

4084

总下载数（次）

总被引数（次）

19905

文章浏览

热门刊内文献

年度刊次

91. 中频磁控溅射沉积DLC/TiAlN复合薄膜的结构与性能研究

作者：于大洋巴德纯张以忱马胜歌

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 424-428

摘要：采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺,并施加霍尔离子源辅助沉积,在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DIE/TiAlN复合薄膜.利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)...
92. Si纳米线的生长机制及其研究进展

作者： Zhao Xinwei 彭英才白振华范志东

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 429-436

摘要： si纳米线及其阵列是近年内新发展起来的准一维半导体光电信息材料,在场效应器件、单电子存储器件、光探测器件、场发射器件、纳米传感器件和高效率发光器件以及集成技术中具有潜在的应用.本文以气-液-...
93. 石英晶片镀膜频率监控技术研究

作者：刘刚刘桂礼李东赵双琦

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 437-440

摘要：石英晶片镀膜是石英晶体谐振器生产中的重要工序之一,通过控制镀膜厚度使石英晶片谐振频率达到目标值.传统的镀膜采用时间控制方法,膜层厚度取决于镀源材料蒸发速率和镀膜时间,用该方法石英晶片谐振频率...
94. 非晶硅薄膜上碘化汞多晶薄膜的生长及其性能

作者：史伟民徐环秦娟郑耀明魏光普

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 441-444

摘要：采用改进后的带有真空活塞的热壁物理气相沉积装置在非晶硅薄膜上制备HgI2多晶薄膜,使薄膜生长的操作过程更加简单安全.用边抽真空边生长薄膜的方式,可以获得较大的生长速率.通过改变不同的沉积参数...
95. 2024铝合金表面镀CrNx多层膜的研究

作者：张礼平李剑锋李国卿李晓娜王兆松董闯

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 445-449

摘要：在2024铝合金上采用了二次浸锌的预处理方法,化学镀镍,电镀铜作为过渡层的特殊工艺,再利用磁过滤脉冲偏压电弧离子镀技术制备了Zn/Ni/Cu/Cr/CrNx多层梯度膜.利用扫描电子显微镜(S...
96. 双层TiOxNy光谱选择性吸收薄膜特性的研究

作者：巴德纯沈辉王志坚王贺权闻立时陈达

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 450-453

摘要：应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜.当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响.结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1:1...
97. 直流碳弧等离子体法制备碳包覆铁纳米颗粒研究

作者：乔宏霞夏天东朱林杨华闫鹏勋魏智强

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 454-457

摘要：在惰性保护气氛下,采用直流碳弧等离子体法成功制备了碳包覆铁纳米颗粒,并利用x射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线能谱仪(EDS)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区...
98. M-Pc/ZnO复合膜的光电性能研究

作者：孙斌斌宋曙光沈鸿烈鲁林峰黄海宾

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 458-461

摘要：采用射频磁控溅射法和真空热蒸发沉积法在FTO衬底上制备了金属酞菁/氧化锌复合膜(M-Pc/ZnO),并对复合膜的光吸收和光电性能进行了研究.实验发现,复合膜的紫外-可见光吸收谱中,金属酞菁的...
99. 等离子体聚合胺基功能薄膜及其生物性能研究

作者：付亚波吴侗翁静谢芬艳陈强

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 462-466

摘要：本文采用射频(13.56MHz)等离子体技术,以丙烯胺(allylamine)为聚合单体,氩气为辅助气体,进行了合成含胺基生物功能薄膜的研究.利用接触角测定仪(WCA),傅里叶变换红外光谱(...
100. 杆控电子枪设计与优化

作者：唐康淞李实赵刚阴和俊

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 467-470

摘要：本论文由杆控电子枪的设计参数出发,通过一系列的公式变换将杆控电子枪的设计转换为实心注电子枪的设计,利用综合迭代法确定电子枪的几何尺寸,同时考虑电子枪尺寸对注腰半径、导流系数等参数的影响,建立...
101. 用于行波管放大器的预失真线性化技术研究

作者：周东方宋家乾张翔

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 471-475

摘要：本文第一部分介绍了行波管的非线性特性,给出了Saleh提出的行波管非线性模型,用其对某行波管的实测数据拟合,拟合均方误差小,结果好.第二部分首先介绍了预失真技术的原理与基本方法,在Saleh...
102. 等离子体增强液态源MOCVD系统的研制

作者：刘卫国周顺张伟张雄星金娜高爱华

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 476-480

摘要：本文介绍了一台新型等离子体增强液态源MOCVD系统.系统由液态源汽化装置、反应室、等离子体产生装置、真空系统及自动控制系统等主要部分组成.该系统采用了由超声雾化器和加热腔组成的液态源汽化装置...
103. 基于线算法的ICP深反应离子刻蚀模型

作者：何晓雄刘成岳张鉴戚昊琛

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 481-485

摘要：电感耦合等离子体(ICP)刻蚀是目前集成电路与微机电系统制造的关键工艺之一.利用一种改进的复合交替深刻蚀(TMDE)模型对ICP深反应离子刻蚀(Deep-RIE)进行了工艺仿真建模.根据深反...
104. 磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及其强化机理研究

作者：刘正义史新伟李杏瑞邱万起

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年5期

页码: 486-491

摘要：采用电弧离子镀(AIP)和磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法分别在不锈钢和硅片上制备了两种不同的TiN薄膜.利用扫描电镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌及组织结构;利用X射线衍射(XRD)及透...
105. 全息光刻-离子束刻蚀制作磁性亚微米结构

作者：付绍军刘颖张自军徐向东徐鹏寿洪义麟蔡建旺邱克强郭玉献

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 493-497

摘要：激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中,基底材料具有高反射率,由于垂直驻波的影响,光刻胶浮雕图形侧壁产生"束腰",本文将O2反应离子刻蚀引入到制作工艺中,对光刻胶图形进行修正,获得了很好的效果...
106. 不同靶材制备ZrW2O8薄膜的对比研究

作者：刘红飞张志萍程晓农

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 498-502

摘要：分别采用摩尔比n(WO3):n(ZrO2)=2.8:1复合陶瓷靶材、纯ZrW208陶瓷靶材以及WO3和ZrO2双靶,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备ZrW2O8薄膜.利用x射线衍射仪(X...
107. 电感调谐无栅间隙双重入同轴谐振腔TM310模的研究

作者：曹静

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 503-506

摘要：本文对无栅间隙双重入圆柱型同轴谐振腔的TM310模的场分布进行了研究.对无栅间隙双重入同轴腔中TM310模的场分布进行理论分析,得到最佳注波互作用的漂移管设置方式和高阶模TM310模场分布稳...
108. 一种同轴谐振腔微波增益均衡器设计的新方法

作者：周东方张德伟朱忠义牛忠霞

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 507-510

摘要：本文给出了用于补偿真空微波管增益波动的同轴谐振腔增益均衡器的一种新的设计方法.文中首先介绍了增益均衡器的作用与原理,然后给出了同轴谐振腔型增益均衡器的基本结构,并利用模式阻抗与驻波函数求得了...
109. 模具钢SKD11强流脉冲电子束表面处理的形貌研究

作者：吴平生宋振飞李曼才董闯郝胜智

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 511-515

摘要：利用强流脉冲电子束不同工艺参数对模具钢SKD11进行表面处理,发现处理表面出现典型的熔坑形貌.通过金相显微镜、电子探针成分分析、三维形貌轮廓仪对处理样品表面进行分析,模具钢SKD11亚表层碳...
110. 圆柱谐振腔式微波等离子体金刚石膜CVD沉积室的FDTD模拟与优化

作者：唐伟忠孟宪明王凤英

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 516-521

摘要：微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备高质量金刚石膜的一种最重要的技术手段.对微波等离子体金刚石膜沉积装置进行模拟与优化,可大大减少设计和改进MPCVD装置时所需要的时间与成...
111. 强流脉冲电子束热障涂层表面改性温度场数值模拟

作者：吴平生宋振飞武洪臣秦颖董闯郝胜智马腾才

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 522-525

摘要：采用了一维温度场模型,对强流(10 A·cm-2～-40 A·cm-2)、脉冲时间(10us～100us)、电子束辐照热障涂层过程中的温度场进行了数值模拟.模拟结果显示:靶材表层迅速熔化(甚...
112. 等效电路法计算耦合腔慢波结构特性

作者：吕国强杨军胡跃辉谢松廷邓光晟黎泽伦

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 526-530

摘要：耦合腔慢波结构的等效电路模型是实际情况的一种近似,冷测计算结果存在一定误差,特别是在整个冷测带宽内精度不能保持一致.为提高计算精度,通过对等效电路参数的分析,引入参数对间隙电容和耦合槽谐振频...
113. 真空开关电弧电子温度诊断的实验研究

作者：丛吉远向川董华军邹积岩

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 531-534

摘要：金属蒸气等离子体是真空开关电弧的基本状态,为了实现对其等离子体电子温度诊断,提高真空开关的工作性能,本文提出了基于光学方法真空开关电弧电子温度诊断技术,阐述了二比色测温的基本原理,建立了真空...
114. 真空管道中阻塞比对列车空气阻力影响的数值研究

作者：周晓张殿业张耀平

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 535-538

摘要：本文基于粘性流体的Navier-Stokes方程和k-e双方程湍流模型,运用流体动力学数值仿真软件FLUENT对不同的真空管道阻塞比条件下,高速列车在不同运行速度下车体所受到的空气阻力进行数...
115. MnSi1.7半导体薄膜材料研究进展

作者：何元金侯清润赵伟陈宜保

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 539-546

摘要：本文对近年来MnSi1.7半导体薄膜的制备方法和电学性能进行了综述.与PtSi和Bi1-xSbx薄膜制备的红外探测器相比较,用MnSi1.7半导体薄膜制备的红外探测器有诸多优点.另外,MnS...
116. 几种高反膜设计新方法

作者：付绍军刘正坤刘颖周洪军干蜀毅徐向东洪义麟霍同林

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 547-552

摘要：现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高,具体表现在两个方面:一是要求在现有基础上进一步提高反射率,拓宽高反膜带宽,二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外～x射线.本文总结了近年来出现的...
117. 全桥ZCS-Boost倍压变换器软开关条件和增益特性研究

作者：周东方张治李欣

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 553-556

摘要：为了探讨ZCS-Boost倍压变换器应用于行波管电源的可行性,文章分析了全桥ZCS-Boost倍压变换器的零电流实现条件和增益特性.这一变换器结构简单,具有高增益的特点,适合应用于高压高功率...
118. C/C多层类金刚石薄膜的热稳定性研究

作者：孙鸿沟引宁黄楠

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 557-560

摘要：采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术,通过改变基体偏压,在单晶Si片和0Cr19Ni9基体表面制备了C/C多层类金刚石薄膜.为了考察多层膜的热稳定性,对薄膜进行了300~C及400~C退火处理...
119. Er2O3/Si外延薄膜表面和界面组分研究

作者：方泽波朱燕艳

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 561-565

摘要：利用X线光电子能谱方法对si基Er2O3外延薄膜的化学组分进行了分析.在X射线照射样品和氩离子轰击使样品减薄的过程中没有诱发其他的化学反应.研究了清洁的si和有氧化层的si衬底上外延生长的E...
120. 中频直流磁控反应溅射法制备掺铝氧化锌薄膜的研究

作者：刘玉芬卢景霄林清耿郜小勇

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2008年6期

页码: 566-569

摘要：利用中频直流磁控反应溅射法(MF-DC-MS)在玻璃衬底上制备了掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜.利用x射线衍射(XRD)、四探针法和分光光度计深入研究了衬底温度对AZO薄膜的结构、电学和光...

真空科学与技术学报基本信息

刊名	真空科学与技术学报	主编	吴锦雷
曾用名	真空科学与技术
主办单位	中国真空学会	主管单位	中国科学技术协会
出版周期	月刊	语种	chi
ISSN	1672-7126	CN	11-5177/TB
邮编	100022	电子邮箱	vst@chinesevacuum.com
电话	010-58206280	网址
地址	北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室