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摘要:
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掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响
光刻
光学设计
光刻投影物镜
畸变
勒让德多项式
公差分析
高数值孔径投影光刻物镜的光学设计
光学设计
高数值孔径(NA)投影光刻物镜
深紫外投影光刻物镜
远心度
曲面光阑
光刻机投影物镜的温度控制算法
温度控制
PI算法
多模态
智能决策
双输入双输出
浸没式光刻投影物镜光学薄膜
浸没式光刻
光学薄膜
膜系设计
环境适应性
激光辐照寿命
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 投影光刻物镜
来源期刊 LSI制造与测试 学科 工学
关键词 集成电路 半导体器件 投影光刻物镜
年,卷(期) 1989,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 44-48
页数 5页 分类号 TN405
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DOI
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路
半导体器件
投影光刻物镜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
LSI制造与测试
双月刊
31-1459/TN
上海江西中路450号
出版文献量(篇)
366
总下载数(次)
0
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