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掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响
光刻
光学设计
光刻投影物镜
畸变
勒让德多项式
公差分析
光刻胶段差对光刻图形的影响与改善
段差
光刻胶
光刻
光刻面
光强
支撑应力对光刻透镜透射波前畸变的影响
光学设计
光刻投影物镜
波前畸变
应力双折射
融石英
元件支撑
畸变的掩模对光刻图形质量的影响
激光直写
邻近效应
分辨力
抗蚀剂模型
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 照明条件对光刻物镜象质的影响
来源期刊 光学精密机械 学科 工学
关键词 照明条件 光刻 物镜 象质 微电子学
年,卷(期) 1990,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 8-10
页数 3页 分类号 TN405.7
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照明条件
光刻
物镜
象质
微电子学
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期刊影响力
光学精密机械
季刊
长春市卫星路7089号
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3901
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