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摘要:
多孔硅的发光性能与其制备工艺密切相关,本文着重讨论了阳极氧化技术、表面再处理、硅衬底的电学性质等因素对多孔硅质量的影响,给出了合适的工艺条件。
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关键词云
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文献信息
篇名 多孔硅制备工艺的研究
来源期刊 半导体杂志 学科 工学
关键词 多孔硅 阳极氧化 光致发光 工艺 制备
年,卷(期) 1995,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 11-14
页数 4页 分类号 TN304.12
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研究主题发展历程
节点文献
多孔硅
阳极氧化
光致发光
工艺
制备
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体杂志
季刊
1005-3077
12-1134/TN
16开
天津市河西区陈塘庄岩峰路
1976
chi
出版文献量(篇)
478
总下载数(次)
1
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1404
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