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沉积温度为室温和560 ℃的Nb/Si多层膜微结构研究
沉积温度为室温和560 ℃的Nb/Si多层膜微结构研究
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摘要：
推荐文章
沉积温度对CVD-SiC涂层显微结构的影响
化学气相沉积
沉积温度
SiC涂层
微观结构
沉积温度对水热电泳沉积硅酸锆涂层显微结构和性能的影响
硅酸锆
水热电泳沉积
碳/碳复合材料
沉积动力学
Mo对于Nb/Nb5Si3原位复合材料室温韧性的影响
Nb/Nb5Si3原位复合材料
韧性
亚稳相
单边切口悬臂梁法
沉积温度和生长停顿对离子束溅射生长Ge/Si多层膜的影响
离子束溅射
Ge/Si多层膜
沉积温度
生长停顿
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真空科学与技术学报
主办单位：
中国真空学会
出版周期：
月刊
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号：
创刊时间：
1981
语种：
chi
出版文献量（篇）
4084
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3
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