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MF(I)S结构设计对硅基铁电薄膜系统C-V特性的影响
MF(I)S结构设计对硅基铁电薄膜系统C-V特性的影响
作者:
于军
董晓敏
赵建洪
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文献信息
篇名
MF(I)S结构设计对硅基铁电薄膜系统C-V特性的影响
来源期刊
无机材料学报
学科
关键词
年,卷(期)
1999,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
613
页数
1页
分类号
字数
1621字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-324X.1999.04.017
五维指标
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无机材料学报
主办单位:
中国科学院上海硅酸盐研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-324X
CN:
31-1363/TQ
开本:
16开
出版地:
上海市定西路1295号
邮发代号:
4-504
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
4760
总下载数(次)
8
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