新型金刚石薄膜场电子发射的特性

• 作者: 宋雪梅 张生俊 张阳 李英兰 陈光华
• 来源期刊: 北京工业大学学报
• 学科: 其他
• 关键词: 金刚石薄膜 场电子发射 负电子亲和势(NEA)
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 116-119
• 页数: 4页
• 分类号: O 462.4|O 484.4|O 613.71
• 字数: 3190字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0037.2000.03.024

摘要

介绍了用微波CVD法制备的一种新型低阈值电压大电流密度金刚石薄膜场发射冷阴极，阈值电压低于1.09 V/ m，场发射电流密度高达418 mA/ cm2，这是目前文献中报道的最好结果之一．文中还探讨了金刚石薄膜场电子发射机制．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张阳	北京理工大学材料研究中心	6	59	4.0	6.0
2	陈光华	北京工业大学材料科学与工程学院	65	396	11.0	16.0
3	宋雪梅	北京工业大学材料科学与工程学院	44	498	11.0	21.0
4	张生俊	北京工业大学材料科学与工程学院	7	43	4.0	6.0
5	李英兰	北京工业大学材料科学与工程学院	1	5	1.0	1.0